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NTIS 바로가기한국재료학회지 = Korean journal of materials research, v.8 no.9, 1998년, pp.871 - 875
오재열 (고등기술연구원 전자재료연구실) , 조영래 (고등기술연구원 전자재료연구실) , 김희수 (고등기술연구원 전자재료연구실) , 정효수 (고등기술연구원 전자재료연구실)
High aspect ratio microstructures were fabricated by photolithography. The material for the microstructure was photosensitive glass which has good mechanical and electrical insulation properties. The photosensitive glass was exposed to ultraviolet light at 312nm through a chromium mask in which the ...
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