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습식 식각 장비 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • G02F-001/13
출원번호 10-2001-0067082 (2001-10-30)
공개번호 10-2003-0035149 (2003-05-09)
등록번호 10-0818048-0000 (2008-03-24)
DOI http://doi.org/10.8080/1020010067082
발명자 / 주소
  • 노병태 / 서울특별시성동구마장동***-**
출원인 / 주소
  • 엘지디스플레이 주식회사 / 서울 영등포구 여의도동 **번지
대리인 / 주소
  • 허용록 (HAW, Yong Noke)
  • 서울 강남구 역삼동***-** 현죽빌딩 *층(선영특허법률사무소)
심사청구여부 있음 (2006-10-30)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록 ▼

본 발명에 따른 습식 식각 장비는, 식각 대상을 로딩/언로딩시키는 로더/언로더부; 및 상기 로더/언로더부로부터 로딩된 식각 대상에 대한 식각공정, 세정공정, 건조공정이 단일 공간에서 수행되는 식각 처리부; 를 포함한다.여기서 상기 식각 처리부는, 식각액을 분사하는 식각액 공급부와, 순수를 분사하는 순수 공급부 및 가스를 분사하는 가스 공급부를 구비하며, 상기 로더/언로더부로부터 로딩된 식각 대상을 회전시킬 수 있는 회전부를 구비한다.또한, 상기 식각 처리부로부터 배출되는 식각액과 순수의 배수 방향을 조절하여, 배출되는 식각액이 재활

대표청구항

식각 대상을 로딩/언로딩시키는 로더/언로더부; 및상기 로더/언로더부로부터 로딩된 식각 대상에 대한 식각공정, 세정공정, 건조공정이 단일 공간에서 수행되는 식각 처리부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 식각 장비.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [한국] 광로 조절장치의 습식 식각 장치 | 임용근
    상세보기

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. [한국] 반도체 소자 패턴의 상부 산화막 식각방법 | 윤준구
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  2. [한국] 습식 식각장치 및 이를 이용한 습식 식각방법 | 이재홍, 오민섭
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  3. [한국] 글라스 식각장치 및 식각방법 | 김재웅
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  4. [한국] 습식에칭장치 | 고경완, 김영관
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