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사진식각 공정에 의한 유리 미세구조물 제작 기술
Fabrication Technology of Glass Micro-framework by Photolithographic Process 원문보기

한국재료학회지 = Korean journal of materials research, v.8 no.9, 1998년, pp.871 - 875  

오재열 (고등기술연구원 전자재료연구실) ,  조영래 (고등기술연구원 전자재료연구실) ,  김희수 (고등기술연구원 전자재료연구실) ,  정효수 (고등기술연구원 전자재료연구실)

초록
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사진식각 공정으로 종횡비가 매우 큰 유리 미세구조물을 제작하였다. 미세구조물의 제작에는 압축응력에 강하고 전기적 절연체인 감광성 유리를 사용하였다. 감광성 유리는 석영기판 위에 크롬이 패턴된 마스크를 사용하여 파장이 312nm인 자외선에 노광되었다. $500^{\circ}C$ 이상의 열처리공정을 거친 후 초음파 분위기에서 10%의 불산용액으로 식각함으로써 유리 미세구조물을 제작하였다. 미세구조물의 최종 형상은 감광성 유리의 두께, 마스크 패턴, 자외선 노광조건 및 식각조건에 크게 의존하였으며, 종횡비가 30이상인 스트라이프 구조의 유리 미세구조물을 제작할 수 있었다.

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

High aspect ratio microstructures were fabricated by photolithography. The material for the microstructure was photosensitive glass which has good mechanical and electrical insulation properties. The photosensitive glass was exposed to ultraviolet light at 312nm through a chromium mask in which the ...

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