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NTIS 바로가기전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.11 no.2, 1998년, pp.95 - 100
정형섭 (인하대학교 반도체 및 박막기술연구소) , 이종근 (인하대학교 반도체 및 박막기술연구소) , 박세근 (인하대학교 반도체 및 박막기술연구소) , 양재균 (피에스케이(주) 부설연구소)
A helical inductively coupled plasma asher, which produces low energy and high density plasma, has been built and investigated for photoresist stripping process. Oxygen ion density in the order of
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