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온도 및 전류밀도 변화에 따른 Pd도금막 특성변화 연구
Effects of Temperature and Current Density on the Characteristics of Electroplated Pd Films 원문보기

한국재료학회지 = Korean journal of materials research, v.9 no.8, 1999년, pp.775 - 781  

배인경 (한국과학기술연구원 청정기술연구센터) ,  최광진 (한국과학기술연구원 청정기술연구센터) ,  김주희 (국과학기술연구원 청정기술연구센터) ,  김영대 (한국과학기술연구원 청정기술연구센터) ,  심상준 (한국과학기술연구원 청정기술연구센터) ,  우경자 (국과학기술연구원 청정기술연구센터) ,  조영상 (국과학기술연구원 청정기술연구센터)

초록
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균일하고 치밀한 미세구조를 갖는 Pd박막이$ PdCl_2$를 사용하는 전기도금방법으로 제조되었다. 본 연구에서는 도금온도와 전류밀도가 주요 공정변수로서 고려되었고 이에 따른 음극효율 및 제조된 Pd도금막의 결정성, 형상 및 경도 등의 특성이 측정되었고, 이들간의 상호관계성이 검토되었다. 연구결과에 따르면, $PdCl_2$를 사용하는 본 Pd전기도금 시스템에서는 5$0^{\circ}C$와 5mA/$\textrm{cm}^2$의 조건이 도금막의 형상으로 볼 때, 최적의 도금조건이라고 간주된다. 최적 조건에서 제조된 Pd도금막의 경도는 약 600kg/$\textrm{mm}^2$이었다. 변수 및 특성간의 관계성 검토 결과, Pd막의 경도는 미세구조에 의해 큰 영향을 받지만, 결정의 배향성과의 연관성은 작은 것으로 해석된다.

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

Palladium thin films of uniform and highly dense microstructure were prepared by the eletroplating method using novel PdCl$_2$-based plating bath. Principal variables taken into account in this study were the plating temperature and the current density. Electroplated Pd films were charact...

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