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NTIS 바로가기韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society, v.8 no.4A, 1999년, pp.476 - 481
김진성 (서울대학교 공과대학 전기공학부) , 김정훈 (서울대학교 공과대학 전기공학부) , 김윤택 (서울대학교 공과대학 전기공학부) , 황기웅 (서울대학교 공과대학 전기공학부) , 주정훈 (군산대학교 공과대학 재료공학과) , 김진웅 (현대전자산업주식회사)
Characteristics of platinum dry etching were investigated in a cryogenic magnetized inductively coupled plasma (MICP). The problem with platinum etching is the redeposition of sputtered platinum on the sidewall. Because of the redeposits on the sidewall, the etching of patterned platinum structure p...
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