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NTIS 바로가기전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.13 no.2, 2000년, pp.131 - 136
김상용 (중앙대학교 전자전기제어 공학부) , 서용진 (대불대학교 전지전자 공학부) , 이우선 (조선대학교 전기제어계측 공학부) , 장의구 (중앙대학교 전자전기제어 공학부)
We have investigated the slurry induced metallic contaminations of undoped and doped silicate oxides surface on CMP cleaning process. The metallic contaminations by CMP slurry were evaluated in four different oxide films, such as plasma enhanced tetra-ethyl-orthyo-silicate glass(PE-TEOS), O3 boro-ph...
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