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NTIS 바로가기韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society, v.9 no.4, 2000년, pp.394 - 399
이원준 (세종대학교 신소재공학과) , 나사균 (대전산업대학교 재료공학과 반도체기술연구소)
The effects of the type and thickness of underlayer on the crystallographic texture and the sheet resistance of aluminum thin film were studied. Ti and Ti/TiN were examined as the underlayer of aluminum. Ti and TiN were prepared by ionized physical vapor deposition (I-PVD) metalorganic chemical vapo...
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