초록

■ 플라즈마 폴리머 박막 합성 및 특성 연구
○ PECVD법을 이용한 low-k 박막의 증착 및 특성 연구
- PECVD법을 이용하여 뛰어난 성능(전기, 기계, 열, 화학)을 가지며 유전율 2.3 이하의 low-k 플라즈마 폴리머 박막의 증착
○ 공정변수 (압력, 온도, 전구체의 종류, 혼합비, RF power 등)의 변화에 따른 플라즈마 폴리머 박막 특성 최적화
○ TEOS 등의 실리콘을 함유한 무기전구체와 유기 전구체를 동시에 중합하여 유·무기 복합 플라즈마 폴리머 박막의 증착

Abstract ▼

■ Study on the characteristics of the plasma polymer thin films
○ Deposition of the low-k thin film by PECVD method, characterization study
- Deposition of the low-k plasma polymer thin films (k < 2.3) with high electrical, mechanical, thermal, and chemical performances by PECVD method
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■ Study on the characteristics of the plasma polymer thin films
○ Deposition of the low-k thin film by PECVD method, characterization study
- Deposition of the low-k plasma polymer thin films (k < 2.3) with high electrical, mechanical, thermal, and chemical performances by PECVD method
○ Optimization of the plasma polymer thin films with changing process conditions as pressure, temperature, chemical, mixture ratio, RF power, etc.
○ Deposition of organic-inorganic hybrid plasma polymer by co-deposition with silicon precursor (like as TEOS) and organic precursor

목차 Contents

• 최종보고서 ... 1
• 목차 ... 3
• I. 연구 계획 요약문 ... 4
• 1. 한글요약문 ... 4
• II. 연구 결과 요약문 ... 5
• 1. 한글요약문 ... 5
• 2. SUMMARY ... 6
• III. 연구내용 및 결과 ... 7
• 1. 연구개발과제의 개요 ... 7
• 2. 국내외 기술개발 현황 ... 12
• 3. 연구수행 내용 및 결과 ... 13
• 4. 목표 달성도 및 관련 분야에의 기여도 ... 33
• 5. 연구결과의 활용계획 ... 34
• 6. 주관연구책임자 대표적 연구 실적 ... 36
• 7. 참고 문헌 ... 36
• 8. 연구 성과 ... 38
• 9. 기타사항 ... 43
• 별첨1 대표연구성과 ... 44
• 자체평가 의견서 ... 49
• 끝페이지 ... 52