[논문]무전해 Ni-P 도금의 공정조건에 따른 도금피막 특성변화

이홍기; 전준미; 박해덕

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무전해 Ni-P 도금의 공정조건에 따른 도금피막 특성변화
Electroless Ni-P layer Characteristics in accordance with the plating process conditions 원문보기

한국표면공학회지 = Journal of the Korean institute of surface engineering, v.36 no.3, 2003년, pp.263 - 271

이홍기 (한국생산기술연구원) , 전준미 (한국생산기술연구원) , 박해덕 (해송P&C)

Abstract ▼ AI-Helper

Optimal conditions of electroless nickel plating in acid baths has been studied for industrial applications of a developed EN solution. The phosphorus content in the deposition ranges from 8 to $12\;wt.\%$. The investigated EN plating parameters are ion concentrations of nickel and hypophosphite, concentration of reducing and complexing agent, temperature, and pH. The average plating rate of Ni-P deposition was ca. $14{\mu}m/h$. The EN solution used shows a deposition rate of $10{\mu}m/h$ up to seven metal turnovers.

주제어

참고문헌 (10)

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A. Brenner, G.E. Riddell, J. Res. Nat. Bur.Stand.39, (1946) 385-395
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R.M. Allen, J.B. Van der Sande, Scripta Met.,16 (1982) 1161

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F. keller, W. G. Zelley, J. Electrochem. Soc.,97 (1950) 143

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김남일, 장시성, 무전해 도금, 동화출판 (1996)

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