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NTIS 바로가기韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society, v.13 no.3, 2004년, pp.114 - 119
김운중 (세종대학교 신소재공학과) , 한창희 (한밭대학교 재료공학과) , 나사균 (한밭대학교 재료공학과) , 이연승 (한밭대학교 정보통신컴퓨터공학부) , 이원준 (세종대학교 신소재공학과)
Silicon Nitride thin films were deposited on p-type Si (100) substrates by atomic layer deposition (ALD) method at
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