$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

레이저 CVD 텅스텐막 증착을 통한 TFT LCD 불량배선 수리
Repairing of a Defective Metallic Line using Laser CVD Deposited Tungsten Film in TFT LCD 원문보기

전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.17 no.10, 2004년, pp.1114 - 1119  

김석군 ((주) BOE HYDIS) ,  손정석 ((주) BOE HYDIS) ,  이기선 ((주) BOE HYDIS)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The photodepositioned tungsten film by laser CVD has been carried out the taping test with scotch tape over 10 times. As a result, it exhibited strong adhesion to the under-film such as ITO and SiNx patterned on the LCD substrate. However, it was seriously attacked by alkaline solution used for remo...

주제어

AI 본문요약
AI-Helper 아이콘 AI-Helper

* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.

문제 정의

  • TFT LCD 패널 제조공정에서 유리기판의 단선 및 단락 등과 같은 불량 배선을 수리하는 레이저 CVD repair 공정과 텅스텐막의 특징을 알아보고, repair 성공률 향상을 위한 방안을 논의해 보았다. 레이저 CVD 텅스텐막은 ITO 금속과 SiNx 절연막과의 밀착력은 우수하나 알칼리성 용액에는 매우 취약한 특성을 보였다.
  • 이는 곧, LCD 패널의 repair 성공여부에 직접적인 영향을 주기 때문에 양산라인에서 매우 중요한 의미를 갖는다. 또한, 증착된 텅스텐막의 adhesion 분석과 repair 성공률에 영향을 미치는 요소들을 조사해 보고, 이를 향상시키기 위한 방안들을 제시해 보았다.
  • 본 논문에서는 전기 전도성이 우수하고, 밀착력고} 신뢰성이 뛰어난 레이저 CVD텅스텐 막의의 특징을 살펴보고, repair 성공률에 영향을 주는 요소들을 찾아보았다.
  • 본 실험에서는 레이저 CVD 증착법으로 증착된텅스텐막과 ITO(indium tin oxide), SiNx등 하부막과의 adhesion을 알아보기 위해서 박리 테스트를실시했고, 화학적 내구성을 알아보기 위해서 액정배향막 rework 용액으로 사용되는 알칼리성 용액과의 반응성을 알아보았다. 그리고, repair 성공률에 영향을 주는 요소를 찾기 위해서 레이저 CVD repair후 실제 LCD 패널의 양산 제조공정에서 발생한 배선 불량을 분석하였다.
본문요약 정보가 도움이 되었나요?

참고문헌 (7)

  1. 이홍규, 이경철, '집속 아르곤 이온 레이저 빔을 이용한 레이저 유도 직접 구리 패터닝', 전기전자재료학회논문지, 13권, 11호, p. 969, 2000 

  2. 류정탁, Kenjiro Oura, 김연보, '레이저 중착법에 의한 탄소계 박막의 구조 및 전계방출특성' 전기전자재료학회논문지, 15권, 7호, p. 634, 2002 

  3. Y. Morishige, S. Kishida, and S. Kishida, 'High performance contact formation in LSI circuit restructuring using visible pulse laser induced ablation and CVD', Appl. Surface Science 46, p. 108, 1990 

  4. R. Tatsumi, 'Process technology for photomask repair', Electronic Parts and Materials (Tokyo) 17, p. 49, 1978 

  5. M. M. Oprysko, M. W. Beranek, and P. L. Young, 'Visible-laser repair of clear defects In photomasks', IEEE Electron Device Letters, Vol. EDL-6, No. 7, p. 344, 1985 

  6. Y. Yoshino, T. Miyagawa, S. Murakami, and Y. kusumi. 'Laser mask repair using laser CVD', IEEE Tokyo section, No. 26, 1987 

  7. R. Solanki, P. K. Boyer, and G. J. Collins, 'Low-temperature refractory metal film deposition', Appl. Phys, Lett., 41(11), 1982 

관련 콘텐츠

오픈액세스(OA) 유형

FREE

Free Access. 출판사/학술단체 등이 허락한 무료 공개 사이트를 통해 자유로운 이용이 가능한 논문

저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로