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[국내논문] PECVD법에 의한 TiN, TiCN 증착 시 gradient plasma power가 코팅층에 미치는 영향
Effect of Gradient Plasma Power on TiN, TiCN Coating Deposited by PECVD Process 원문보기

열처리공학회지 = Journal of the Korean society for heat treatment, v.17 no.4, 2004년, pp.236 - 240  

김동진 (동우열처리공업(주) 기술연구소) ,  신창현 (동우열처리공업(주) 기술연구소) ,  허정 (동우열처리공업(주) 기술연구소) ,  남태운 (한양대학교 금속재료공학과)

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

Effect of plasma power on PECVD process were investigated in this study. TiN and TiCN films were deposited on nitrided STD11 steel with 600W, 1,200W and 1,600W plasma power. As the plasma power was increased, the preferred orientation was reinforced from (200) to (111) and the hardness of films was ...

주제어

#PECVD   #Gradient Plasma Power(GPP)   #TiN   #TiCN   #Adhesion force   #Micro vickers hardness  

참고문헌 (10)

  1. F. Lang, Z. Yu: Surface and Coatings Technology, 145 (2001) 80-87 

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  8. J.E. Sungren : Thin Solid Films, 128 (1985) 21 

  9. H. Guo, M. Alam: Thin Solid Films, 212 (1992) 173 

  10. T.J. Vink, B.A.D. Vanzon: J. Vac. Sic. Technol., A9, 1(1991) 124 

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