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He-Cd 레이저와 근접장현미경을 이용한 폴리머박막 나노리소그라피 공정의 특성분석
Characteristics of nanolithograpy process on polymer thin-film using near-field scanning optical microscope with a He-Cd laser 원문보기

한국레이저가공학회지 = Journal of korean society of laser processing, v.7 no.3, 2004년, pp.37 - 46  

권상진 (광주과학기술원 기전공학과) ,  김필규 (광주과학기술원 기전공학과) ,  천채민 (광주과학기술원 신소재공학과) ,  김동유 (광주과학기술원 신소재공학과) ,  장원석 (한국기계연구원 나노공정그룹) ,  정성호 (광주과학기술원 기전공학과)

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The shape and size variations of the nanopatterns produced on a polymer film using a near-field scanning optical microscope(NSOM) are investigated with respect to the process variables. A cantilever type nanoprobe having a 100nm aperture at the apex of the pyramidal tip is used with the NSOM and a H...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 공정변수로 나노 프로브로 조사되는 레이저빔의 출력(Pin), 시편 표면에 대한 나노 프로브의 이송속도(V) , 근접 장현미 경의 접촉 모드 (DC) 비접촉 모드 (AC) 등을 선정하여 이들 공정변수가 제조된 패턴의 선폭, 깊이 등에 미치는 영향을 조사하고, 임의형상의 나노패턴 제조를 통해 근접장 나노리소그라피공정의 나노소자 제조 응용 가 능성을 보였다. 마지막으로 아조폴리머상에 나노점을 제조함으로써 대용량데이터 저장 장치로의 응용 가능성을 제시하였다.
  • 이러한 접촉 모드와 비접촉 모드가 근접 장 리소그라피에 의해 제조된 패턴의 선폭과 깊이에 미치는 영향을 살펴보고자 테스트 시편을 제조하여 비교해 보았다. Fig.
  • 이렇게 감광된 영역의 깊이를 증가시키기 위해서 동일한 패턴에 대하여 반복이송 (multi scan) 을 통해 근접 장 리소그라피를 수행하여 보았으나 반복이 송횟수가 많아짐에 따라 감광제에 대한 에너지의 투입량이 많아지므로 패턴의 깊이와 폭이 동시에 증가하여 공간정밀도(spatial resolution)7? 떨어지는 것으로 나타났다. 이에 반복이송에 의한 패턴 제조는 나노마스크 제조에 있어 적합한 방법이 아닌 것으로 결론 내리고 다른 접근 방법으로 공간정밀도는 유지한 채 패턴의 깊이만을 감소시키기 위하여 감광제의 두께를 줄이는 방법에 대하여 검토해 보았다. 감광제의 두께가 얇으면 패턴의 깊이가 얕아지고 따라서 선폭 또한 작게 유지할 수 있기 때문이다.
  • 이와 같은 특성을 가지는 근접장 리소그라피 공정에 대한 연구와 관심이 점차 증대되고 있는 가운데 제조시의 분해능이나 패턴 형상 및 크기 등에 대한 연구는 아직 완전히 확립되어 있지 않은 것으로 여겨지고 있다. 이에 본 연구에서는 피라미드형상의 개구가 있는 나노 프로브를 이용하는 근 접장현미경 (alpha SNOM, WITec)을 이용하여 광감광 제상에 근접장 리소그라피를 통해 나노 패턴들을 제조하고 분석 고찰하여 근접장나노리소 그라피 공정시의 특성을 살펴보았다. 공정변수로 나노 프로브로 조사되는 레이저빔의 출력(Pin), 시편 표면에 대한 나노 프로브의 이송속도(V) , 근접 장현미 경의 접촉 모드 (DC) 비접촉 모드 (AC) 등을 선정하여 이들 공정변수가 제조된 패턴의 선폭, 깊이 등에 미치는 영향을 조사하고, 임의형상의 나노패턴 제조를 통해 근접장 나노리소그라피공정의 나노소자 제조 응용 가 능성을 보였다.
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