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Characterization of Negative Photoresist Processing by Statistical Design of Experiment (DOE) 원문보기

International journal of maritime information and communication sciences, v.3 no.4, 2005년, pp.191 - 194  

Mun Sei-Young (Department of Electronic Engineering at Myongji University) ,  Kim Gwang-Beom (Department of Electronic Engineering at Myongji University) ,  Soh Dea-Wha (Department of Electronic Engineering and director of semiconductor technology center at Myongji University) ,  Hong Sang Jeen (Department of Electronic Engineering & NBRC at Myongji University)

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

SU-8 is a epoxy based photoresist designed for MEMS applications, where a thick, chemically and thermally stable image are desired. However SU-8 has proven to be very sensitive to variation in processing variables and hence difficult to use in the fabrication of useful structures. In this paper, neg...

주제어

#SU-8   #Post Exposure Bake (PEB)   #Statistical Design of Experiment (DOE)  

AI 본문요약
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문제 정의

  • SU-8 has proven to be very sensitive to variation in processing variables and hence difficult to use in the fabrication of usefill structures. The literature describes wide variation in values for processing parameters which reflects the different SU-8 recipes used [2]. Therefore, this paper investigates the variation of SU-8 processing, with the ultimate goal of minimizing delamination, using statistical design of experiment (DOE).
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참고문헌 (5)

  1. M. Brunet, T. O'Donnell, J. O'Brien, P. McCloskey, and S. Mathuna, 'Thick photoresist development for the fabrication of high aspect ratio magnetic coils,' J. Micromech. Microeng., vol. 12, 2002, pp. 444-449 

    상세보기 crossref

  2. M. Despont, H. Lorenz, N. Fahrni, J. Brugger, P. Renaud, and P. Vettiger, 'High-aspect ratio ultrathick, negative tone near-UV photoresist for MSMS applications,' In Proc. IEEE, 10th Annual Int. Workshop in Micro Eletro Mechanical Systems, Nagoya, Japan, pp. 518-522, Jan. 1997 

  3. G. Box, W. Hunter, and J. Hunter, Statistics for Experimenters, New York: Wiley, 1978 

  4. Besterfield, D., Besterfield, C., Besterfield, G. H., and Besterfield, M., Total quality development, Upper Saddle River, NJ: Prentice Hall, 1999 

  5. Robert H. Carver, 'Doing Data Analysis with MINITAB 14,' Brooks Cole., 2003 

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