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NTIS 바로가기공업화학 = Applied chemistry for engineering, v.17 no.2, 2006년, pp.158 - 162
최재학 (한국원자력연구소 방사선이용연구부) , 노영창 (한국원자력연구소 방사선이용연구부) , 홍성권 (충남대학교 공과대학 고분자공학과)
Poly[4-hydroxystyrene-co-2-(4-methoxybutyl)-2-adamantyl methacrylate] was synthesized and evaluated as a matrix resin for extreme UV (EUV) chemically amplified resist. The resist system formulated with this polymer resolved 120 nm line and space (pitch 240 nm) positive patterns using a KrF excimer l...
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