$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

포토 레지스트의 기술 동향과 화학 증폭형 포토레지스트에서의 광산 발생제의 연구

Technology Trends for Photoresist and Research on Photo Acid Generator for Chemical Amplified Photoresist

조선자연과학논문집 = Journal of the chosun natural science, v.2 no.4, 2009년, pp.252 - 264  

김성훈 (동우화인켐 전자재료연구소) ,  김상태 (동우화인켐 전자재료연구소)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Lithographic data obtained from PHS(polyhydroxy styrene) having various functionalities were investigated by using a photoacid generator based on diazo and onium type. Chemically amplified photoresist based on the KrF type photoresist was developed by using a photoacid generator and multi-functional...

주제어

AI 본문요약
AI-Helper 아이콘 AI-Helper

* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.

문제 정의

  • 이에 새로운 레지스트의 개발에 주원료라고 할 수 있는 광산발생제(Photoacid generator)와 고분자와의 관계를 통하여 새로운 포토레지스트 시스템을 연구하였다. 본 연구에서는 일반적으로 사용 되어 지는 디아조(diazo) 타입과 오니윰(onium)타입의 광산발생제(Photoacid generator)을 이용하여 다양한 작용기를 가진 PHS(polyhydroxy styrene)수지에 적용하고 그들의 리소 그래피 자료를 얻었다. 다양한 광산 발생제(Photoacid generator)를 이용하여 수지의 프로파일 패턴에 다양한 영향을 주었으며, KrF용 수지에 다양한 작용기를 합성하고 적용하여 해상도와 프로파일이 개선 되는 연구가 이루어 졌다.
  • 본 연구에서는 포토 레지스트의 기본의 되는 광산발생제(Photoacid generator)와 수지를 이용하여 화학증폭형 포토 레지스트의 기본이 되는 KrF용 포토 레지스트에 대한 연구를 진행하였다. 레지스트 연구에 있어서 중요한 광산 발생제(Photoacid generator)의 열적 안정서에 대한 결과를 통하여 광산 발생제의 로딩양이 많아 지면 Tg(유리전이온도)를 낮추어 열적 저항성이 낮아지는 결과를 얻었다.
  • 위에서는 광산 발생제(Photoacid generator)의 구조적 특성에 따른 프로파일이나 해상도의 변화에 대해서 알아보았다. 이번에는 산을 발생시키는 광산 발생제이기 때문에 이 광산 발생제가 가지고 있는 산도에 따라서 프로파일에 어떤 영향을 주는지 알아 보도록 하자.
  • 일반적으로 산만 발생시킬 것이라 생각되어지지만, 각각의 구조가 프로파일에 영향을 준다. 이 연구에서는 이온성 타입의 경우에 양이온의 구조가 커지면 패턴 프로파일의 크게 만드는 것에 영향을 줌을 알 수 있다.
  • 위에서는 광산 발생제(Photoacid generator)의 구조적 특성에 따른 프로파일이나 해상도의 변화에 대해서 알아보았다. 이번에는 산을 발생시키는 광산 발생제이기 때문에 이 광산 발생제가 가지고 있는 산도에 따라서 프로파일에 어떤 영향을 주는지 알아 보도록 하자.
  • 또한, 포토리소그래피 기술이 한계 해상도(resolution limit)에 도달하였을지라도, 새로운 레지스트 및 프로세스의 개발이 필요하게 되었다. 이에 새로운 레지스트의 개발에 주원료라고 할 수 있는 광산발생제(Photoacid generator)와 고분자와의 관계를 통하여 새로운 포토레지스트 시스템을 연구하였다. 본 연구에서는 일반적으로 사용 되어 지는 디아조(diazo) 타입과 오니윰(onium)타입의 광산발생제(Photoacid generator)을 이용하여 다양한 작용기를 가진 PHS(polyhydroxy styrene)수지에 적용하고 그들의 리소 그래피 자료를 얻었다.
본문요약 정보가 도움이 되었나요?

질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
포지티브형와 네가티브형 포토레지스트는 어떤 차이가 있는가? 그림 1에서는 포토레지스트의 감광된 부분의 현상액에 대한 용해도에 따라 포지티브형와 네가티브형 포토레지스트로 나뉜다. 포지티브 포토레지스트는 노광된 부분이 현상액에 용해되며, 네가티브 포토레지스트는 노광된 부분이 녹지 않고 노광되지 않은 부분이 용해되어 나타난다.
화학증폭형 포토레지스트란 무엇인가? Deep UV를 광원으로 사용하는 리소 그래피법으로 발전함에 따라 포토레지스트를 화학증폭형(chemically amplified) 기작을 이용하여 사용하기 시작했다. 화학증폭형 포토레지스트는 양자 수율이 100% 보다 큰 포토레지스트를 의미하는 것으로 protecting-deprotecting 반응이라고도 한다. 사용되는 고분자는 PHS(polyhy-droxystyrene) 고분자와 photoacid generator(PAG)를 기본으로 contrast 향상 및 용해도 조절을 위한 반응 금지제를 사용한다.
화학증폭형 포토레지스트에 사용되는 고분자는 무엇인가? 화학증폭형 포토레지스트는 양자 수율이 100% 보다 큰 포토레지스트를 의미하는 것으로 protecting-deprotecting 반응이라고도 한다. 사용되는 고분자는 PHS(polyhy-droxystyrene) 고분자와 photoacid generator(PAG)를 기본으로 contrast 향상 및 용해도 조절을 위한 반응 금지제를 사용한다. 화학증폭형 포토레지스트의 작용 기작은, 엑시머 레이져 노광에 의해 PAG로부터 발생된 산이 확산하며 이후 이어지는 post exposure bake(PEB) 과정에서 t-BOC 또는 protecting group을deprotecting 시키는 반응을 통해 보호기가 수산화기로 치환된다.
질의응답 정보가 도움이 되었나요?

관련 콘텐츠

섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트