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[국내논문] 나노 디바이스 응용을 위한 탄소나노튜브 성장 특성
Growth of Carbon Nanotubes for Nano Device Application 원문보기

컴퓨터산업학회논문지 = Journal of the Korea Computer Industry Society, v.8 no.1, 2007년, pp.17 - 22  

박용욱 (남서울대학교 전자공학과) ,  이승대 (남서울대학교 전자공학과)

초록
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본 연구에서는 선택적 영역에서 반도체 성질을 갖는 탄소나노튜브을 합성하기 위해 촉매의 구조 및 형태가 탄소나노튜브의 성장에 미치는 영향을 연구하였다. CVD 방법으로 Fe와 Mo 전이 금속알루미나 나노 입자속에 삽입한 액상형태의 촉매구조와 박막형태의 나노 덩어리 Fe 금속박막을 증착한 후 실리콘 산화막$(SiO_2/Si)$ 기판에 $700^{\circ}C$ 온도에서 에틸렌$(C_2H_4)$가스를 사용하여 디바이스 사이에 정렬된 탄소나노튜브의 합성 연구를 수행 하였으며, 탄소나노튜브의 성장특성은 SEM과 AFM을 이용하여 분석하였다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Carbon nanotubes (CNTs) were grown by a thermal chemical vapor deposition (CVD) method, which has been regarded as one of the most promising candidates for the synthesis of CNTs due to low cost and high growth yield. The Ethylene $(C_2H_4)$, hydrogen $(H_2)$ and Argon(Ar) gases...

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구에서는 전극이 존재하는 선택적 영역에서 반도체 성질을 갖는 탄소나노튜브을 합성하기 위해, 촉매의 구조 및 형태가 탄소나노튜브의 성장에 미치는 영향을 연구하였다. CVD 방법으로 Fe와 Mo 전이 금속을 알루미나 나노 입자속에 삽입한 액상형태의 촉매구조와 박막형태의 나노 덩어리 Fe 금속박막을 증착한 후 실리콘 산화막(SiOz/Si) 기판에 700 ℃에서 에틸렌(C2H4)가스를 사용하여 디바이스 사이에 정렬된 탄소나노튜브를 합성 연구를 수행 하였다.
  • 따라서 본 연구에서는 선택적 영역에서 반도체 성질을 갖는 탄소나노튜브을 합성하기 위해 촉매의 구조 및 형태가 탄소나노튜브의 성장에 미치는 영향을 연구하였다. 열 CVD 방법으로 Fe와 Mo 전이 금속을 알루미나 나노 입자 속에 삽입한 액상형태의 촉매구조와 박막 형태의 나노 덩어리 Fe 금속박막을 증착한 후 실리콘 산화막(SiOeSi) 기판에 700 ℃ 온도에서 에틸렌(C2H4)가스를 사용하여 디바이스 사이에 정렬된 탄소나노튜브를 합성 연구를 수행하였다.

가설 설정

  • [1] 탄소나노튜브는 말 그대로 탄소로 구성되어 있는 속이 빈 튜브모양의. 구조체이고 나노란 말은 직경의 크기가 수 내지 수십 나노미터이기 때문에 명명된 이름이다.
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