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NTIS 바로가기전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.20 no.4, 2007년, pp.325 - 331
이현기 (중앙대학교 전자전기공학부) , 장의구 (중앙대학교 전자전기공학부)
In this study, the inter-metal dielectric material of FSG was changed by low-k material in
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W. W. Lee and P. S. Ho, 'Low-dielectric-constant materials for ULSI interlayer-dielectric applications', MRS Bull., Vol. 22, No. 10, p. 19, 1997
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Y. S. Tan, Simon Y. M. Chooi, C.-Y. Sin, P.-Y. Ee, M. P. Srinivasan, and S. O. Pehkonen, 'Characterization of low-k dielectric trench surface cleaning after a fluorocarbon etch', Thin Solid Films, Vol. 462-463, p. 250, 2004
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