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[국내논문] 열 나노임프린트 리소그래피에서의 몰드와 열가소성 폴리머 필름 사이의 응착 특성
Adhesion Characteristics between Mold and Thermoplastic Polymer Film in Thermal Nanoimprint Lithography 원문보기

윤활학회지 = Journal of the Korean Society of Tribologists and Lubrication Engineers, v.24 no.5, 2008년, pp.255 - 263  

김광섭 (한국과학기술원 기계항공시스템학부) ,  강지훈 (삼성전자(주) 반도체총괄 스토리지사업부) ,  김경웅 (한국과학기술원 기계항공시스템학부)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Adhesion tests were conducted to investigate the adhesion characteristics between mold and thermoplastic polymer film. Coating of anti-sticking layer (ASL), a kind of polymer material, imprint pressure, and separation velocity were considered as the process conditions. A piece of fused silica withou...

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문제 정의

  • 본 연구에서는 열 나노임프린트 공정에서 사용되는 열가소성 폴리머 필름과 용융실리카(fhsed silica) 몰드 사이의 응착 특성 및 이에 대한 공정 조건의 영향을 조사하였다. 이를 위해 폴리머 필름의 종류, ASL의 유무, 임프린트 압력, 분리 속도와 같은 공정 조건을 달리하여 열가소성 폴리머 필름과 용융실리카 몰드 사이의 응착력을 측정하였으며, 실험 후 폴리머 필름과 몰드의 표면을 관찰하여 표면 손상 정도를 조사하였다.
  • 몰드와 폴리머 필름의 응착 특성에 큰 영힝을 미칠것으로 예상되는 ASL의 유무폴리머 필름의 종류, 임 프린트 압력, 분리 속도와 같은 공정 조건에 대해 각 공정조건이 응착 특성에 어떠한 영향을 미치는지 알아 보았다. 이를 위해 ASL이 코팅되지 않은 몰드와 코팅 된 몰드에 대해 각각 응착 실험을 수행하여 그 결과를 비교하였다.
  • 이를 위해 ASL이 코팅되지 않은 몰드와 코팅 된 몰드에 대해 각각 응착 실험을 수행하여 그 결과를 비교하였다. 임프린트 압력과 분리 속도의 영향을 알아보기 위한 실험은 nir-l PMMA 폴리머 필름에 대해 서만 수행되었다. 실험조건은 Table 2에 정리된 바와 같다.
  • 본 연구에서는 나노임프린트 공정용 열가소성 폴리머 필름과 몰드 사이의 응착 특성에 대한 공정 조건의 영향에 대해 조사하여 다음과 같은 결론을 얻을 수 있었다.
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참고문헌 (26)

  1. Chou, S. Y., Krauss, P. R., and Renstrom, P. J. 'Imprint of sub-25 nm Vias and Trenches in Polymers', Appl. Phys. Lett., Vol. 67, No. 21, pp. 3114-3116, 1995 

  2. Guo. L. J., 'Recent Progress in Nanoimprint Technology and its Applications', J. Phys. D:Appl. Phys., Vol. 37, pp. R123-R141, 2004 

  3. Macintyre, D. S., Chen, Y., Gourlay, D., Boyd, E., Moran, D., Cao, X., Elgaid, K., Stanley, C. R., Thayne, I., and Thoms, S., 'Nanoimprint Lithography Process Optimization for the Fabrication of High Electron Mobility Transistors', J. Vac. Sci. Technol. B, Vol. 21, No. 6, pp. 2783-2787, 2003 

  4. Zhang, W. and Chou, S. Y., 'Fabrication of 60-nm Transistors on 4-in. Wafer Using Nanoimprint at All Lithography Levels', Appl. Phys. Lett., Vol. 83, No. 8, pp. 1632-1634, 2003 

  5. Ye, P. D., Wilk, G. D., Tois, E. E., and Wang, J. J., 'Formation and Characterization of Nanometer Scale Metal-oxide-semiconductor Structures on GaAs Using Low-temperature Atomic Layer Deposition', Appl. Phys. Lett., Vol. 87, No. 1, pp. 13501-13503, 2005 

  6. Puscasu, I., Boreman, G., Tiberio, R. C., Spencer, D., and Krchnavek, R. R., 'Comparison of Infrared Frequency Selective Surfaces Fabricated by Direct-write Electron-beam and Bilayer Nanoimprint Lithographies', J. Vac. Sci. Technol. B, Vol. 18, No. 6, pp. 3578-3581, 2000 

  7. Ahn, S. W., Lee, K. D., Kim, D. H., and Lee, S. S., 'Polymeric Wavelength Filter Based on a Bragg Grating Using Nanoimprint Technique', IEEE Photon. Technol. Lett., Vol. 17, No. 10, pp. 2122-2124, 2005 

  8. Arakcheeva E. M., Tanklevskaya E. M., Nesterov S. I., Maksimov M. V., Gurevich S. A., Seekamp J., and Torres C. M. S., 'Fabrication of Semiconductorand Polymer-based Photonic Crystals Using Nanoimprint Lithography', Tech. Phys., Vol. 50, No. 8, pp. 1043-1047, 2005 

  9. Cheng, X., Hong, Y. T., Kanicki, J., and Guo, L. J., 'High-resolution Organic Polymer Light-emitting Pixels Fabricated by Imprinting Technique', J. Vac. Sci. Technol. B, Vol. 20, No. 6, pp. 2877-2880, 2002 

  10. Kao, P. C., Chu, S. Y., Chen, T. Y., Zhan, C. Y., Hong, F. C., Chang, C. Y., Hsu, L. C., Liao, W. C., and Hon, M. H., 'Fabrication of Large-scaled Organic Light Emitting Devices on the Flexible Substrates Using Low-pressure Imprinting Lithography', Elec. Dev., IEEE Transactions, Vol. 52, No. 8 pp. 1722-1726, 2005 

  11. Ahn, S. W., Lee, K. D., Kim, J. S., Kim, S. H., Park, J. D., Lee, S. H., and Yoon, P. W., 'Fabrication of a 50 nm Half-pitch Wire Grid Polarizer Using Nanoimprint Lithography', Nanotechnology, Vol. 16, No. 9, pp. 1874-1877, 2005 

  12. Ohtake, T., Nakamatsu, K. I., Matsui, S., Tabata, H., and Kawai, T., 'DNA Nanopatterning with Selforganization by Using Nanoimprint', J. Vac. Sci. Technol. B, Vol. 22, No. 6, pp. 3275-3278, 2004 

  13. Bunk, R., Carlberg, P., Mansson, A., Nicholls, I. A., Omling, P., Sundberg, M., Tagerud, S., and Montelius, L., 'Guiding Molecular Motors with Nano-Imprinted Structures', Jap. J. Appl. Phys. part 1, Vol. 44, No. 5A, pp. 3337-3340, 2005 

  14. Austin, M. D., Ge, H. X., Wu, W., Li, M. T., Yu, Z. N., Wasserman, D., Lyon, S. A., and Chou, S. Y., 'Fabrication of 5 nm Linewidth and 14 nm Pitch Features by Nanoimprint Lithography', Appl. Phys. Lett., Vol. 84, No. 26, pp. 5299-5301, 2004 

  15. Hirai, Y., Yoshida, S., and Takagi, N., 'Defect Analysis in Thermal Nanoimprint Lithography', J. Vac. Sci. Technol. B, Vol. 21, No. 6, pp. 2765-2770, 2003 

  16. Hirai, Y., Yoshida, S., Takagi, N., Tanaka, Y., Yabe, H., Sasaki, K., Sumitani, H., and Yamamoto, K., 'High Aspect Pattern Fabrication by Nano Imprint Lithography Using Fine Diamond Mold', Jap. J. Appl. Phys. Part 1, Vol. 42, pp. 3863-3866, 2003 

  17. Jaszewski, R. W., Schift, H., Groning, P., and Margaritondo, G., 'Properties of Thin Anti-adhesive Films Used for the Replication of Microstructures in Polymers', Microelectron. Eng., Vol. 45, No. 1-4, pp. 381-384, 1997 

  18. Beck, M., Graczyk, M., Maximov. I., Sarwe, E. L., T. G. I. Ling, Keil, M., and Montelius, L., 'Improving Stamps for 10 nm Level Wafer Scale Nanoimprint Lithography', Microelectron. Eng., Vol. 61-62, pp. 441-448, 2002 

  19. Chen, J. K., Ko, F. H., Hsieh, K. F., Chou, C. T., and Chang, F. C., 'Effect of Fluoroalkyl Substituents on the Reactions of Alkylchlorosilanes with Mold Surfaces for Nanoimprint Lithography', J. Vac. Sci. Technol. B, Vol. 22, No. 6, pp. 3233-3241, 2004 

  20. Schift, H., Saxer, S., Park, S. G., Padeste, C., Pieles, U., and Gobrecht, J., 'Controlled Co-evaporation of Silanes for Nanoimprint Stamps', Nanotechnology, Vol. 16, pp. S171-S175, 2005 

  21. Park, S., Schift, H., Padeste, C., Schnyder, B., Kotz, R., and Gobrecht, J., 'Anti-adhesive Layers on Nickel Stamps for Nanoimprint Lithography', Microelectronic Eng., Vol. 73-74, pp. 196-201, 2004 

  22. Tallal, J., Gordon, M., Berton, K., Charley, A. L., and Peyrade, D., 'AFM Characterization of Antisticking Layers Used in Nanoimprint', Microelectron. Eng., Vol. 83, pp. 851-854, 2006 

  23. Ulman, A., 'Formation and Structure of Self-assembled Monolayers', Chem. Rev., Vol. 96, pp. 1533-1554, 1996 

  24. Ja czuk, B., Bialopiotrowicz, T., and Zdziennicka, A., 'Some Remarks on the Components of the Liquid Surface Free Energy', J. Colloid. Interface Sci., Vol. 211, pp. 96-103, 1999 

  25. Kasai, T., Bhushan, B., Kulik, G., Barbieri, L., and Hoffmann, P., 'Micro/nanotribological Study of Perfluorosilane SAMs for Antistiction and Low Wear', J. Vac. Sci. Technol. B, Vol. 23, No. 3, pp. 995-1003, 2005 

  26. Jones, Richard A.L., and Richards, Randal W., Polymers at surfaces and interfaces, Cambridge University, pp. 293, 1999 

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