[논문]Synthesis and Characterizations of Positive-Working Photosensitive Polyimides Having 4,5-Dimethoxy-o-Nitrobenzyl Side Group

Ryu, Sun; Kim, Jong-Hoon; Lee, Seung-Hee; Lee, Myong-Hoon

doi:10.5012/bkcs.2008.29.9.1689

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Synthesis and Characterizations of Positive-Working Photosensitive Polyimides Having 4,5-Dimethoxy-o-Nitrobenzyl Side Group 원문보기

Bulletin of the Korean chemical society, v.29 no.9, 2008년, pp.1689 - 1694

Ryu, Sun (Department of Polymer) , Kim, Jong-Hoon (Department of Polymer) , Lee, Seung-Hee (Department of Polymer) , Lee, Myong-Hoon (Department of Polymer)

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제안 방법

Maximum substitution degree of 68% was obtained when 75 mol% of DMNBBr was used. In this work, polyimide of 50 mol% substitution degree was used to investigate its photopatterning behavior. From FT-IR spectra (Fig.
DMF solution was used to spincast the polymer, and the film forming ability was practically good compared to other soluble polyimides. To investigate thermal stability of PI-CA and PI-DMNB, both samples were subjected to thermogravimetric analyses (TGA). As shown in Figure 3, small weight decrease (~0.

대상 데이터

Experiment지s Reagents. 4,4'-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride (6FDA), 3,5-diaminobenzoic acid (3,5-DABA), DMNBBr, and DBU were purchased from Aldrich Chemical Co., and used without further purification. MMethyl-2- pyrrolidone (NMP), RMdimethylfbrmamide (DMF), pyridine and acetic anhydride were used after strirring with CaH2 for 24 h with subsequent distillation under reduced pressure.

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