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문제 정의
- 전자 방출원(e-beam gun)으로부터 방출되어 발산하는 모든 전자들이 다시 일점으로 집속되기 위해서는 힘이 광축으로부터 거리에 비례해야 한다.4이러한 특성을 갖는 자기 렌즈의 형상 설계 및 배치가 전자빔 광학 해석의 주요 목적이다. 이를 위하여 본 연구에서는 자기 렌즈에 의하여 생성되는 자계에 의하여 운동이 변화되는 전자빔의 거동시뮬레이션 기술을 개발한다.
- 본 연구는 멀티 전자빔 리소그래피 시스템을 개발하기 위한 마이크로 전자 칼럼을 설계하기 위한 기반 기술을 개발하는 것을 목적으로 한다. 전자빔컬럼을 설계하기 위한 전자빔의 거동에 대한 광학적 해석 및 전산 모사(simulation)를 수행하였으며, 이를 통하여 마이크로 빔라인을 설계하기 위한 기반 기술이 확보되었다.
- 본 연구에서 개발하고자 하는 전자빔 컬럼은 초미세 가공을 위하여 빔 의 스폿 크기 (spot size)를 수십 nA 수준으로 집속하는 것을 목표로 한다. 빔 전류량이 매우 적어 공간전하효과를 무시할 수 있을 것으로 예측된다"
- 본 연구에서는 자기 렌즈를 이용한 전자빔의 집 속을 이루기 위한 기본 특성을 파악하기 위하여 이중(doublet) 렌즈에서의 전자빔 거동을 전산 모사하였다. (Fig.
- 이를 활용하여 빔 사이즈 수십 nm 급에 적용될 수 있는 전자계 렌즈, 전자빔 의 궤적 등 제어계 모형을 구축하고, 각 부품이 이루는 기하학적 구조 등의 Simulation 기술을 개발한다. 본 연구의 궁극적인 목표는 미세 전자빔 거동 해석 기술을 개발하여 초미세 가공용 멀티 전자빔 리소그래피 장치의 개발에 있다.
- 본연구는 멀티 전자빔 리소그래피용 마이크로 칼럼의 설계를 위하여 전자빔의 광학적 특성을 해석하고, 마이크로 칼럼의 렌즈 설계 및 전자빔 거동의 예측을 위한 빔광학 전산모사 기술을 개발한다. 이를 활용하여 빔 사이즈 수십 nm 급에 적용될 수 있는 전자계 렌즈, 전자빔 의 궤적 등 제어계 모형을 구축하고, 각 부품이 이루는 기하학적 구조 등의 Simulation 기술을 개발한다.
- 4이러한 특성을 갖는 자기 렌즈의 형상 설계 및 배치가 전자빔 광학 해석의 주요 목적이다. 이를 위하여 본 연구에서는 자기 렌즈에 의하여 생성되는 자계에 의하여 운동이 변화되는 전자빔의 거동시뮬레이션 기술을 개발한다. 3차원적으로 전산 모사된 자계 내를 전자들이 이동하며 자계의 영향으로 인하여 운동이 변화되는 현상에 대한 컴퓨터 모델을 수립하고 시뮬레이션을 수행하였다.
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