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전자빔 미세 분석법
Electron Probe MicroAnalysis: EPMA 원문보기

세라미스트 = Ceramist, v.10 no.5, 2007년, pp.86 - 92  

배승묵 (홍익대학교 신소재공학과) ,  서원선 (요업기술원 신뢰성 분석센터) ,  황진하 (홍익대학교 신소재공학과)

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AI 본문요약
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문제 정의

  • EPMA를 이용 분석된 한 예로 EPMA의 장단점을 설명하고자 한다. 첫번째 시료는 조성을 알고 있는 금속 시편에 대한 정 량 분석 결과이다.
  • 그 중 원자번호 효과 (Atomic Number Effect)는 시편과 표준 시료의 다른 조성으로 인해 전체적인 평균 원자번호가 다를 경우 발생하는 현상이다. 이 전자빔의 입사에 따른 후방산란전자와 전자의 감속에 영향을 미쳐 발생하는 X-선의 발생 량을 변화시킬 수 있으므로 이에 대한 보정을 수행한다. 두번째 흡수 효과(Absorption Effect) 는 시료나 표준 시료의 표면 밑에서 발생한 X-선이 일정 부분 고체를 통과한 다음 X-선 감지 시스템으로 향하게 될 때 발생하게 된다.
  • 정랑 y 정성 분석의 정확성 뿐만 아니라 측정 데이터의 효과적 인 전달 및 상호 교환도 매우 중요한 사항이다. 한층 강화된 이미지 관련 분석 기법과 본연의 EPMA가 결합하면서, EPMA의 기능이 점차 확대되고 있는바, EPMA 의 응용을 확대하고자, 본 기고는 학계 및 산업계에서의 정보'0를 바탕으로 EPMA의 측정 원리 및 장치 구성, 응용으로 나누어 설명하며, 궁극적으로 재료의 제반 분아에 응용할 수 있는 기초를 제공하고자 한다. 본 EPMA 는 EDS와 WDS를 동시에 갖춘 EPMA시스템을 기준으로 설명될 것이다.
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