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[국내논문] FIB-Sputtering 가공공정기술 및 응용분야 연구
FIB-Sputtering Process Technology and Its Application 원문보기

한국정밀공학회지 = Journal of the Korean Society for Precision Engineering, v.25 no.3 = no.204, 2008년, pp.23 - 31  

강은구 (한국생산기술연구원 e가공공정팀) ,  최병열 (한국생산기술연구원 e가공공정팀) ,  홍원표 (한국생산기술연구원 e가공공정팀) ,  이석우 (한국생산기술연구원 e가공공정팀) ,  최헌종 (한국생산기술연구원 e가공공정팀)

초록이 없습니다.

Keyword

#집속이온빔 식각   #집속이온빔 증착   #마이크로/나노금형   #FIB가공공정기술   #FIB 응용기술  

AI 본문요약
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* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.

제안 방법

  • 응용범위가 확대되고 있다. 특히, 정밀 마이크로금형에 적용하기 위한 금형소재 선택에 따른 FIB-Sputtering 비율에 대한 평가를 실시하였다. 특히, STAVAX, GC, DLC 소재는 HOT EMBOSSING 용 금형 또는 마스터를 제작하기위해 선정되었다.
  • 수행되어지고 있다. Nellene 마이크로 Fresnel 렌즈를 FIB-Sputtering 가공공정기술을 이용하여 3D 가공을 수행하였으며, 1차적으로 FIB-Sputtering시 가공 깊이에 대한 패턴분석 연구를 수행 후 이를 활용하여 1차 예비가공을 수행하였다. 이후 사전실험 결과를 토대로 보정가공을 수행한 결과가 Fig.

대상 데이터

  • 각각의 파라미터 수치는 일반적으로 많이 사용되는 수준으로 선정되었다. 사용되는 장비는 FEI Nova 2000장비 이다.

데이터처리

  • 특히, STAVAX, GC, DLC 소재는 HOT EMBOSSING 용 금형 또는 마스터를 제작하기위해 선정되었다. FIB-Sputtering 비율을 평가하기위해 단위면적당 이온주립양(area ion dose)을 일정하게 유지하였으며, 스캐닝 반복수( Number of Scan Layer)에 따른 가공 깊이 예측 결과를 선형회귀분석을 이용하여 계산하였다. Fig.
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참고문헌 (10)

  1. Reyntjens, S. and Puers, R., "A review of focused ion beam applications in microsystem technology," Journal of Micromechanics and Microengineering, Vol. 11, Issue 4, pp. 287-300, 2001 

    상세보기 crossref

  2. Choi, H. Z., Kang, E. G., Lee, S. W. and Hong, W. P., "Development of Nano Machining Technology using Focused Ion Beam," The Korean Society of Machine Tool Engineers Spring Conference, pp.482-486, 2004 

  3. Kang, E. G., Choi, B. Y., Hong, W. P., Lee, S. W. and Choi, H. Z., "Nano-Patterning Characteristics using FIB-Sputtering Technology for DVD Mold," J. of the KITECH, Vol. 16, No. 7, pp.158-169, 2007 

  4. Choi, H. Z., Hong, W. P., Kang, E. G., Choi, B. Y. and Lee, S. W., "Analysis on FIB-Sputtering Process using Taguchi Method," Transctions of the Korean Society of Machine Tool Engineers, Vol.15, No.6, pp.72-75, 2006 

  5. Lee, S. W., Kang, E. G., Choi, B. Y., Hong, W. P. and Choi, H. Z., "Analysis of FIB-Sputtering Characteristicson Glassy Carbon," Korean Society for Precision Engineering Spring Conference, pp.767-768, 2007 

  6. Youn, S. W., Takahashi, M., Goto, H. and Maeda, R., "Fabrication of micro-mold for glass embossing using focused ion beam, femto-second laser, eximer laser and dicing techniques," Journal of Materials Processing Technology, Vol. 187-188, pp.326-330, 2007 

    상세보기 crossref

  7. Youn, S. W., Takahashi, M., Goto, H. and Maeda, R., "Microstructuring of glassy carbon mold for glass embossing - Comparison of focused ion beam, nano/femtosecond-pulsed laser and mechanical machining," Microelectronic Engineering, Vol. 83, pp.2482-2492, 2006 

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  8. Watanabe, K., Morita, T. and Kometani, R., "Nanoimprint using three-dimensional microlens mold made by focused-ion-beam chemical vapor deposition," J. Vac. Sci. Technol. B, Vol. 22, No. 1, pp.22-26, 2004 

    상세보기 crossref

  9. Kang, E. G., Lee, S. W., Choi, H. Z. and Hong, W. P., "Micro Mold Fabrication Process by Focused Ion Beam using Amorphous Materials," Korea Patent Pending, No. 10-2007-0035048, 2007 

  10. Takahashi, M., "Micro/Nano Hot Embossing of Quartz Glass Materials with Glassy Carbon Mold Prepared by Focused Ion Beam," The KITECH-AIST Joint Workshop on Micro/Nano Fabrication Technology, pp.19-44, 2007 

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