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제안 방법
- 나노점을 형성하였다. Atomic Force Microscopy (AFM)를 통해 형성된 나노점의 크기 및 분포에 대하 & 조사하였으며, 효과적인 자속고정 특성을 위한 나 노점의 밀도 증진에 대한 연구와 초전도내 기둥형 결흠-과의 관계에 대하여 알아보았다.
- 습윤한 산소분위기에서 하소하여 초전도 전구체 박막을 형성하였으며, 이후 낮은 산소 분위기의 습윤한 분위기에서 고온 열처리를 하여 초전도 층을 형성하였다. X-ray diffraction법으로 초전도층의 상형 성 및 조직을 관찰하였으며, 초전도 임계전류밀도는 액체질소 온도 77K, self-field에서 4단자 법으로 측정하였다.
- Zr 전구체 용액이 코팅 된 기판은 열처리 노에 넣어 후열처리를 하여 나노점을 형성하였다. ZrOz을 형성하기 위하여 산소 가스를 흘려주면서 약 1-2시간 동안 열처리하였다.
- 고온 초전도 coated conductor0, ] 나노점 형성에 의한 기둥형 결함 유도를 적용하기 위한 실험으로서 YSZ 단결정을 이용하였다. 먼저 YSZ 단결정 기판 위에 완충층 CeO2를 증착하여 coated conductor 구조와 비슷한 조건에서 나노점 형성을 조사하였다.
- 나노점의 크기 및 밀도를 조절하기 위하여 Zr 전구체의 농도를 변화시켜서 실험하였으며, 코팅시간에 따른 변화도 관찰하였다. Zr 전구체 용액을 균일하게 분무하기 위해서는 주사기 노즐 끝에서 conejet이 형성되어야 한다.
- 단결정 YSZ 위에 CeO?를 증착한 후 전기 방사법으로 나노점 ZrO2를 형성하였다. 직경은 〜200nm, 높이는 〜 140nm로 관찰되었으며, 나노점 밀도는 〜 을 얻었다.
- 단결정을 이용하였다. 먼저 YSZ 단결정 기판 위에 완충층 CeO2를 증착하여 coated conductor 구조와 비슷한 조건에서 나노점 형성을 조사하였다. Fig.
- 본 연구에서는 전기방사법을 사용하여 기판 표면 위에 나노점을 형성하였다. Atomic Force Microscopy (AFM)를 통해 형성된 나노점의 크기 및 분포에 대하 & 조사하였으며, 효과적인 자속고정 특성을 위한 나 노점의 밀도 증진에 대한 연구와 초전도내 기둥형 결흠-과의 관계에 대하여 알아보았다.
- 전기방사법으로 나노점 형성을 위한 예비실험으로 유리 기판을 사용하여 조사하였다. 분무 시간을 10초, 30초, 60초, 180초까지 변화시켰을 때 나 노점의 밀도는 각각 2.3/pm2, 5.3/pm2, 7.3/pm2, 16/卩詩로변화하였다. 즉 코팅시간이 증가함으로써 나노점의 밀도도 같이 증가했음을 알 수 있다.
- 초전도 전구체 용액은 Fluorine이 없는 Y과 Cu 전구체와 Ba-TFA를 혼합하여 사용하였다. 습윤한 산소분위기에서 하소하여 초전도 전구체 박막을 형성하였으며, 이후 낮은 산소 분위기의 습윤한 분위기에서 고온 열처리를 하여 초전도 층을 형성하였다. X-ray diffraction법으로 초전도층의 상형 성 및 조직을 관찰하였으며, 초전도 임계전류밀도는 액체질소 온도 77K, self-field에서 4단자 법으로 측정하였다.
- 유리 표면 및 CeO층의 표면 상태와 그 위에 형성되는 나 노점은 밀접한 관계가 있을 것으로 보이며, 계면에서의 상호 반응 부분도 고려해야 할 것이다. 이 부분에 관해서는 좀 더 연구가 진행되어야 할 것이다[5, 6], ZrO2 나노점이 형성된 YSZ 단결정 기판을 사용하여 MOD법으로 초전도층을 증착하였다. Fig.
- 자기장하 임계전류 특성 향상을 위하여 초전도 물질 내부에 자속고정점을 유도하기 위한 전략으로 기판 표면 위에 나노점을 형성하였다. 나노점이 형성된 tem- plate위에 초전도층을 증착하여 초전도층 내부에 나 노점을 seed로 하여 그 위에 기둥형 결함을 초전도 층의 표면 끝까지 유도하는 것이다.
- 3에 시간에 따른 ZrO2 나노점의 형성 결과를 나타내었다. 전기방사법으로 나노점 형성을 위한 예비실험으로 유리 기판을 사용하여 조사하였다. 분무 시간을 10초, 30초, 60초, 180초까지 변화시켰을 때 나 노점의 밀도는 각각 2.
- 전기방사법을 사용하여 기판 표면위에 ZrO2 나 노점을 형성하였다. 나노점을 seed로 하여 초전도층 내부에 기둥형 결함을 유도하면 자기장하 임계 전류 특성을 향상시킬 수 있다.
- 전기방사법을 이용하여 ZrO2 나노점을 기판표면에 형성하였다. 나노점 형성을 위해 유리기판과 단결정 YSZ위에 CeCh가 증착된 것을 사용하였다.
- Zr 전구체 용액을 균일하게 분무하기 위해서는 주사기 노즐 끝에서 conejet이 형성되어야 한다. 주사기 노즐 끝에서 분무되는 형상을 조절하기 위하여 CCD 카메라를 설치하여 모니터를 관찰하면서 가해주는 전압 및 전구체 용액의 주입속도를 조절하여 conejet를 형성시켰다 [7], 기판 표면에 형성된 나 노점의 크기 및 밀도를 분석하기 위하여 AFM을 사용하여 표면을 관찰하였으며, 단면 분석을 수행하였다. ZrO-z 나노점이 형성된 template# 사용하여 초전도 층을 제조하였으며, 초전도층은 Metal Organic Deposition 법을 사용하였다.
대상 데이터
- 나노점 형성을 위해 유리기판과 단결정 YSZ위에 CeCh가 증착된 것을 사용하였다. 기판의 크기는 10 X 10 rnn?이고 한쪽 면만 연마가 되어 있으며, 표면의 평균 Roughness는 0.
- ZrO-z 나노점이 형성된 template# 사용하여 초전도 층을 제조하였으며, 초전도층은 Metal Organic Deposition 법을 사용하였다. 초전도 전구체 용액은 Fluorine이 없는 Y과 Cu 전구체와 Ba-TFA를 혼합하여 사용하였다. 습윤한 산소분위기에서 하소하여 초전도 전구체 박막을 형성하였으며, 이후 낮은 산소 분위기의 습윤한 분위기에서 고온 열처리를 하여 초전도 층을 형성하였다.
이론/모형
- 직경은 〜200nm, 높이는 〜 140nm로 관찰되었으며, 나노점 밀도는 〜 을 얻었다. MOD 법으로 초전도층을 증착하였으며 77K, s이f-fi이d에서 IZMA/cm?얻었다. ZrO2 나 노점에 의한 기둥형 결함 유도 여부 및 자기장하 임계 전류 특성 향상에 관하여 TEM 분석 등이 진행중이며, 나 노점의 형태 및 분포에 따른 자속고정점의 유도 관계에 대하여 향후 체계적인 연구가 필요할 것이다.
- 주사기 노즐 끝에서 분무되는 형상을 조절하기 위하여 CCD 카메라를 설치하여 모니터를 관찰하면서 가해주는 전압 및 전구체 용액의 주입속도를 조절하여 conejet를 형성시켰다 [7], 기판 표면에 형성된 나 노점의 크기 및 밀도를 분석하기 위하여 AFM을 사용하여 표면을 관찰하였으며, 단면 분석을 수행하였다. ZrO-z 나노점이 형성된 template# 사용하여 초전도 층을 제조하였으며, 초전도층은 Metal Organic Deposition 법을 사용하였다. 초전도 전구체 용액은 Fluorine이 없는 Y과 Cu 전구체와 Ba-TFA를 혼합하여 사용하였다.
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