$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

[국내논문] DPT를 위한 자동 레이아웃 분리
Automatic Layout Decomposition for DPT 원문보기

電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체, v.45 no.4 = no.370, 2008년, pp.124 - 130  

문동선 (한양대학교 전자전기제어계측공학과) ,  신현철 (한양대학교 전자전기제어계측공학과) ,  신재필 ((주)삼성전자)

초록
AI-Helper 아이콘AI-Helper

Double patterning technology (DPT)를 위한 자동 레이아웃 분리 기술을 개발하였다 CMOS 공정이 45nm와 그 이하로 점차 미세화 됨에 따라 리소그래피 해상도를 향상시키는 기술이 요구되고 있다. 최소 거리 규칙을 완화하기 위해 두 개의 마스크로 레이아웃을 나누어 두 번 패터닝 하는 DPT 기술이 기존 리소그래피의 제한을 해소하기 위해 제안되었다. 그러나 레이아웃을 DPT에 적합하게 두 개의 마스크로 나누는 것은 항상 가능하지 않다. 이러한 문제를 해결하기 위해 새로운 자동 스티칭 기술을 개발하였다. 실험 결과는 본 논문에서 제안한 DPT를 위한 자동 레이아웃 분리 방법이 고무적임을 보여준다.

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

Automatic layout decomposition techniques have been developed for double patterning technology (DPT). As CMOS manufacturing process scales down to 45nm and below, lithography resolution needs to be improved. DPT has been proposed to enhance the limitation of conventional lithography, by decomposing ...

Keyword

#Decomposing   #Double Patterning Technology   #Lithography  

AI 본문요약
AI-Helper 아이콘 AI-Helper

* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.

문제 정의

  • 따라서 레이아웃 설계의 pitch를 늘려 해상도를 개선하는 DPT가 제안되었다. 본 연구는 DPT를 위한 새로운 레이아웃 분리 기술을 개발하였다. 실제 상용 회로의 레이아웃 설계를 대상으로 실험한 결과는 제안된 기술이 효과적임을 보여준다.
본문요약 정보가 도움이 되었나요?

참고문헌 (4)

  1. A. Sezginer B. Yenikaya, "Double Patterning Technology: Process-Window Analysis in a Many-Dimensional Space", Proc of SPIE Vol.6521, 652113, 21 March 2007 

  2. ITRS 2007 Roadmap, http://www.itrs.net 

  3. P. Berman; A. Kahng; D. Vidhani H. Wang; A. Zelikovsky, "Optimal Phase Conflict Removal for Layout of Dark Field Alternating Phase Shifting Masks", Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems, IEEE Transactions on, Volume 19, Issue 2, pp. 175-187, Feb. 2000 

    상세보기 crossref

  4. C. Chiang; A. Kahng Sinha, S.; Xu, X.; Zelikovsky, A. Z., "Fast and Efficient Bright-Field AAPSM Conflict Detection and Correction", Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems, IEEE Transactions on, Volume 26, Issue 1, pp. 115-126, Jan. 2007 

    상세보기 crossref

저자의 다른 논문 :

관련 콘텐츠

저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로