[논문]이광자 흡수 광환원 공정을 이용한 마이크로 금속형상 제작의 정밀화에 관한 연구

손용; 임태우; 양동열; 이광섭

doi:10.3795/ksme-a.2008.32.9.754

[국내논문] 이광자 흡수 광환원 공정을 이용한 마이크로 금속형상 제작의 정밀화에 관한 연구
Improvement of Metallic Micro-Structure Precision Employing Two-photon Induced Photoreduction Process 원문보기

大韓機械學會論文集. Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers. A. A, v.32 no.9 = no.276, 2008년, pp.754 - 760

손용 (한국과학기술원 기계항공시스템학부) , 임태우 (한국과학기술원 기계항공시스템학부) , 양동열 (한국과학기술원 기계항공시스템학부) , (한남대학교 생명정보신소재공학과) , 이광섭 (한남대학교 생명정보신소재공학과)

Abstract ▼ AI-Helper

A two-photon induced photoreduction process suggests a possibility for fabricating complicated metallic microstructures which can be applied to 3-D micro-circuits and optical devices, etc. The process employs the photoreduction of silver ions in a metallic solution which is composed of metallic salt ($AgNO_3$) and watersoluble polymer ((poly(4-styrenesulfonique acid) 18wt. % in $H_2O$, $(C_8H_8O_3S)_n$)). In this process, the improvement of the resolution and the uniformity of fabricated metallic structures are important issues. To address these problems, continuous forming window (CFW) is obtained from a parametric study on the conditions of laser power and scanning velocity and the direct seed generation (DSG) method is proposed. Silver nano particles are uniformly generated in a metallic solution through the DSG method, which enables the decrease of a laser power to trigger the photoreduction of silver ions as well as the increase of metal contents in a metallic solution. So the two-photon induced photoreduction property of a metallic solution is improved. Through this work, precise silver patterns are fabricated with a minimum line width of 400 nm.

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문제 정의

본 연구에서는 금속이온을 균일하게 배열시켜 주는 기능성 고분자를 포함한 금속이온 수용액을 이용한 이광자 흡수 광환원 공정의 정밀화를 위한 연구를 수행하였다. 이를 위해 레이저 출력, 스캐닝 속도 등 주요 공정변수에 대하여 균일한 금속 형상을 제작할 수 있는 균일 제작조건(continuous fabrication window; CFW)을 도출 하였고 이광자 흡수 광환원 효율을 높이기 위한 금속이온 수용액의 초음파 가진을 통한 금속나노입자 생성방법(direct seed generation method; DSG)을 제안하여 마이크로 금속형상 제작에 대한 정밀도 개선을 수행하였다.
여기서 스캐닝 속도는 안정적인 피에조 스테이지의 제어를 위해 단위 조사간격을 40 nm 로 고정하고 단위 조사시간을 변화시켜 제어 하였다. 이러한 공정변수의 변화가 실제 이광자 흡수 광환원 공정을 이용한 마이크로 금속형상 제작에 어떠한 영향을 미치는지 실험을 통하여 알아보았다. Fig.
이광자 흡수 광환원 공정을 이용한 마이크로 금속형상 제작의 정밀도를 향상시키기 위해 금속 나노입자를 금속이온 수용액에 포함시켜 이광자 흡수 광환원 효율을 높이는 것에 대한 연구가 이루어졌다.⁽¹⁵⁾ 이 경우 금속이온 수용액 내부에 금속 입자를 고르게 분산시키기 위해 금속입자 표면을 고분자로 코팅 시키기 위한 분산제의 개발 및 이에 따른 금속이온의 함유량 향상에 대한 어려움이 있어 이에 대한 연구가 더 필요한 상태이다.
이에 본 연구에서는 이광자 흡수 광환원 공정을 이용한 마이크로 금속형상제작 정밀화를 위하여 초음파 가진을 이용하여 금속이온 수용액 내부에 직접적으로 금속나노입자를 생성시키는(direct seed generation; DSG) 방법을 제안하였다. 이 방법을 이용하게 되면 인위적으로 분산제를 통해 금속 나노입자를 첨가할 필요 없이 금속이온 수용액 내부에 금속나노입자를 생성시킬 수 있으며 이렇게 생성된 금속나노입자는 이광자 흡수 광환원 효율을 높여 낮은 레이저 조사 조건에서 이광자 흡수 광환원을 가능하게 해주어 정밀한 마이크로 금속형상 제작에 유리하다.
본 연구에서는 이광자 흡수 광환원 공정을 이용한 마이크로 금속형상 제작공정에 있어 그 형상 정밀도를 개선하기 위하여 균일하게 연결된 금속선을 제작할 수 있는 균일 제작영역(CFW)을 도출하였다. 또한 초음파 가진을 통한 금속이온 수용액 내부에 직접적으로 금속나노입자를 균일하게 생성시키는 DSG(direct seed generation) 방법을 제안하였다.

제안 방법

본 연구에서는 금속이온을 균일하게 배열시켜 주는 기능성 고분자를 포함한 금속이온 수용액을 이용한 이광자 흡수 광환원 공정의 정밀화를 위한 연구를 수행하였다. 이를 위해 레이저 출력, 스캐닝 속도 등 주요 공정변수에 대하여 균일한 금속 형상을 제작할 수 있는 균일 제작조건(continuous fabrication window; CFW)을 도출 하였고 이광자 흡수 광환원 효율을 높이기 위한 금속이온 수용액의 초음파 가진을 통한 금속나노입자 생성방법(direct seed generation method; DSG)을 제안하여 마이크로 금속형상 제작에 대한 정밀도 개선을 수행하였다.
이광자 흡수 광환원 공정 시스템은 Fig. 1 과 같이 이광자 흡수 현상을 발생시키기 위해 광원으로 작동 주파수 80 MHz, 펄스 폭(pulse width) 80 fs 인펨토초 레이저(femtosecond laser)를 사용하였고 옵티컬 셔터를 레이저 경로에 위치시켜 레이저의 on/off를 제어 하였다. 레이저 빔의 위치는 고정시키고 시편의 3 축 위치 제어를 하기 위해 0.
1 과 같이 이광자 흡수 현상을 발생시키기 위해 광원으로 작동 주파수 80 MHz, 펄스 폭(pulse width) 80 fs 인펨토초 레이저(femtosecond laser)를 사용하였고 옵티컬 셔터를 레이저 경로에 위치시켜 레이저의 on/off를 제어 하였다. 레이저 빔의 위치는 고정시키고 시편의 3 축 위치 제어를 하기 위해 0.1 nm 의 정밀도(resolution)를 갖는 피에조 스테이지 (piezo stage)를 사용 하였다. 정밀한 형상 제작을 위해 개구수(numerical aperture)가 1.
1 nm 의 정밀도(resolution)를 갖는 피에조 스테이지 (piezo stage)를 사용 하였다. 정밀한 형상 제작을 위해 개구수(numerical aperture)가 1.4 인 옵티컬 렌즈를 사용하여 레이저 빔의 초점 크기를 작게 만들었다. 시편은 150 ㎛ 두께의 커버 글라스(cover glass) 위에 금속이온 수용액을 스핀코팅(spin coating)하여 만들었으며, 스핀코팅 되는 과정에서 일부 수분 증발과 함께 첨가된 고분자가 고상화 되어 금속 이온이 균일하게 배열된 시편을 만들 수 있다.
이광자 흡수 광환원 공정변수로는 레이저 출력과 레이저 스캐닝 속도를 들 수 있다. 여기서 스캐닝 속도는 안정적인 피에조 스테이지의 제어를 위해 단위 조사간격을 40 nm 로 고정하고 단위 조사시간을 변화시켜 제어 하였다. 이러한 공정변수의 변화가 실제 이광자 흡수 광환원 공정을 이용한 마이크로 금속형상 제작에 어떠한 영향을 미치는지 실험을 통하여 알아보았다.
Scientific 사의 FS20H 모델로 사용된 주파수는 42 kHz 이다. 초음파 가진에 의한 금속나노입자 생성을 측정하기 위해 입도 분석을 하였다.
6 nm ~ 6 ㎛ 크기의 입자를 측정할 수 있다. 입도 분석 실험은 초음파 가진을 통하여 최대 금속이온을 함유할 수 있는 2.0 M 금속이온 수용액을 갖고 수행 하였으며 초음파 가진 시간 변화(0 ~ 15 min)에 따른 금속 입자 생성 여부와 그 크기를 측정 하였다. Fig.
초음파 가진 시간이 약 15 분 정도 되었을 때 환원된 금속 나노입자의 크기는 약 8 nm 까지 생성됨을 알 수 있고 시간에 따라 생성된 금속 입자의 크기는 균일 함을 알 수 있다. 또한 15 분 이상의 시간에 대해서는 생성된 금속 입자들간 엉겨 붙음(aggregation)이 일어나기 시작 하였으므로 금속이온 수용액 내부에 금속 나노입자를 균일하게 생성하는 조건은 초음파 가진 10 분을 가하여 약 8 nm 크기의 금속 입자를 생성 하도록 하였다.
이와 같이 DSG 방법을 이용한 금속 나노입자 생성 방법은 금속이온 수용액 내에 나노 크기의 금속 입자를 균일하게 생성할 수 있는 유리한 방법임을 확인 하였고, 이에 따른 이광자 흡수 광환원 공정을 이용한 금속형상 제작 실험을 수행하였다. Fig.
본 연구에서 도출한 이광자 흡수 광환원 공정 조건을 이용하여 정밀한 2 차원 마이크로 금속형상을 제작 하였다. Fig.
본 연구에서는 이광자 흡수 광환원 공정을 이용한 마이크로 금속형상 제작공정에 있어 그 형상 정밀도를 개선하기 위하여 균일하게 연결된 금속선을 제작할 수 있는 균일 제작영역(CFW)을 도출하였다. 또한 초음파 가진을 통한 금속이온 수용액 내부에 직접적으로 금속나노입자를 균일하게 생성시키는 DSG(direct seed generation) 방법을 제안하였다. 제안된 방법을 이용하여 이광자 흡수 광환원 효율 증가에 따른 최소 레이저 조사조건인 레이저 출력 60 mW, 단위 조사시간 5 ms 에 대하여 최소 선폭 400 nm 의 균일한 금속선을 제작 하였고 나노급 정밀도를 갖는 복잡한 2 차원 패턴을 제작할 수 있었다.

대상 데이터

그러므로 제작된 금속형상의 금속함유량을 높이기 위해서는 금속이온 수용액 내의 금속이온 비율을 높일수록 유리하다. 하지만 금속이온 수용액 내에 일정 이상의 금속이온이 함유될 경우 시편제작 중 PSS 의 고상화 과정에서 PSS 와 결합하지 못하고 물에 녹아있는 금속 이온이 저절로 질산은으로 석출되는 현상이 발생하여 이광자 흡수 현상이 발생하지 않으므로 본 연구에서는 금속이온 수용액이 질산은을 최대한 균일하게 혼합할 수 있는 1.5 M 농도의 금속이온 수용액을 사용하였다.
입도 분석 실험 장치로는 Malvern Instruments 사의 Zetasizer Nano ZS 모델을 사용 하였으며 0.6 nm ~ 6 ㎛ 크기의 입자를 측정할 수 있다. 입도 분석 실험은 초음파 가진을 통하여 최대 금속이온을 함유할 수 있는 2.
제작된 금속 형상의 전체 크기는 65 ㎛ × 140 ㎛ 로 약 6 ㎛ 크기의 단어들로 구성되어 있다.

이론/모형

금속이온 수용액을 초음파 가진 하기 위해 물 중탕 법을 이용하였으며 실험에 사용된 초음파 가진 장치는 Fisher. Scientific 사의 FS20H 모델로 사용된 주파수는 42 kHz 이다.

성능/효과

3(b)는 200 mW 출력에서 제작된 결과이다. 이와 같은 결과를 통해 레이저 조사조건이 적절한 conditionⅠ에서는 균일한 단일선이 제작되었으며 레이저 조사량이 불충분한 conditionⅡ에서는 일부만이 제작되었고 레이저 조사량이 과도한 conditionⅢ에 대해서는 이중선이 제작됨을 알 수 있다.
5 M 금속이온 수용액을 이용하여 레이저 스캐닝 속도(40 nm/1 ms ~ 40 nm/10 ms) 및 출력(60 mW ~ 200 mW)의 변화에 따라 제작된 마이크로 금속형상의 특성 및 선폭을 나타낸 그래프이다. 결과와 같이 균일한 금속 형상을 제작할 수 있는 조건인 condition Ⅰ의 영역을 1.5 M 금속이온 수용액을 이용한 이광자 흡수 광환원 공정에 대한 CFW 로 도출 할 수 있으며, 이 영역에서의 최소 에너지 조건인 레이저 출력 60 mW, 단위 조사시간 9 ms 을 이용하여 최소 선폭 560 nm 인 균일한 금속선을 제작 할 수 있다.
초음파 가진에 의해 금속 나노입자가 생성 됨을 알 수 있으며 그 크기는 시간이 지남에 따라 조금씩 커짐을 알 수 있다. 초음파 가진 시간이 약 15 분 정도 되었을 때 환원된 금속 나노입자의 크기는 약 8 nm 까지 생성됨을 알 수 있고 시간에 따라 생성된 금속 입자의 크기는 균일 함을 알 수 있다. 또한 15 분 이상의 시간에 대해서는 생성된 금속 입자들간 엉겨 붙음(aggregation)이 일어나기 시작 하였으므로 금속이온 수용액 내부에 금속 나노입자를 균일하게 생성하는 조건은 초음파 가진 10 분을 가하여 약 8 nm 크기의 금속 입자를 생성 하도록 하였다.
5 의 결과와 비교하면 200 mW 의 레이저 출력인 경우 모든 스캐닝 속도에 대해 이중 선으로 제작되는 것은 동일하지만 60 mW 출력에 대해서는 단위조사 시간이 7 ms 에서 5 ms 로 감소하여도 균일하게 제작됨을 알 수 있다. 이러한 결과는 금속이온 수용액이 금속나노입자를 포함함에 따라 이광자 흡수 광환원 효율이 증가하여 더욱 낮은 레이저 에너지 조건에서도 균일한 금속 형상이 제작 가능함을 알려준다. 이 경우 최소 레이저 조사조건인 레이저 출력 60 mW, 단위 조사 시간 5 ms 에 대하여 최소 선폭 400 nm 인 균일한 금속선을 제작할 수 있다.
또한 초음파 가진을 통한 금속이온 수용액 내부에 직접적으로 금속나노입자를 균일하게 생성시키는 DSG(direct seed generation) 방법을 제안하였다. 제안된 방법을 이용하여 이광자 흡수 광환원 효율 증가에 따른 최소 레이저 조사조건인 레이저 출력 60 mW, 단위 조사시간 5 ms 에 대하여 최소 선폭 400 nm 의 균일한 금속선을 제작 하였고 나노급 정밀도를 갖는 복잡한 2 차원 패턴을 제작할 수 있었다. 향후 본 공정을 응용한 다양한 2-D/3-D 형상 제작을 통하여 다양한 응용사례가 예상된다.

후속연구

제안된 방법을 이용하여 이광자 흡수 광환원 효율 증가에 따른 최소 레이저 조사조건인 레이저 출력 60 mW, 단위 조사시간 5 ms 에 대하여 최소 선폭 400 nm 의 균일한 금속선을 제작 하였고 나노급 정밀도를 갖는 복잡한 2 차원 패턴을 제작할 수 있었다. 향후 본 공정을 응용한 다양한 2-D/3-D 형상 제작을 통하여 다양한 응용사례가 예상된다.

질의응답

핵심어	질문	논문에서 추출한 답변
	금속 미세 패터닝을 할 수 있는 대표적인 공정은?	물리적 증착방법(physical vapor deposition; PVD), 화학적 증착방법(chemical vapor deposition; CVD), 전기도금(electroplating)은 금속 미세 패터닝을 할 수 있는 대표적인 공정으로서 대면적 고정밀 패터닝에 매우 유리하다. 최근에는 고집적, 고효율 3차원 광/전자 소자 제작을 위하여 반복적인 패터닝 공정과 식각(etching) 공정이 주로 이용되고 있지만, 제작할 형상이 복잡해짐에 따라 많은 공정이 반복되어야 하며 완전한 3 차원 마이크로 금속 형상을 제작하기에는 어려움이 있다.
	기존의 이광자 흡수 광환원 현상을 이용한 3 차원 마이크로 금속형상 제작 방법은 무엇이 있는가?	금속의 경우 이광자 흡수 광환원 현상(two-photon induced photoreduction)을 이용하여 원하는 위치에 금속이온을 환원시켜 3 차원 마이크로 금속형상을 제작할 수 있다. 기존의 이광자 흡수 광환원 현상을 이용한 3 차원 마이크로 금속형상 제작 방법으로는 크게 수용액 상태에서 금속이온을 환원 시키는 방법(11,12)과 금속이온 배열 향상을 위한 기능성 고분자를 이용하여 금속이온을 광환원 시키는 두 가지 방법(13,14)이 이용 되고 있다. 수용액 상태에서 금속이온을 환원시키는 방법은 환원제의 역할과 열 발생에 대한 안정화 역할을 하는 물 (H2O)을 이용하며, 금속이온 수용액에 다른 물질이 포함되지 않아 순수한 금속만의 형상을 얻을 수 있다.
	수용액 상태에서 금속이온을 환원시키는 방법의 단점은?	수용액 상태에서 금속이온을 환원시키는 방법은 환원제의 역할과 열 발생에 대한 안정화 역할을 하는 물 (H2O)을 이용하며, 금속이온 수용액에 다른 물질이 포함되지 않아 순수한 금속만의 형상을 얻을 수 있다. 하지만 환원된 금속이 레이저에 의해 가열됨에 따라 금속이온 수용액 내부에 기포가 발생하기 쉬워 국부적인 광환원 결핍 현상이 일어나며 이에 따라 균일한 금속형상 제작이 어려운 단점이 있다. 금속이온 수용액에 기능성 고분자를 이용하는 방법은 금속이온을 금속 수용액 내에 균일하게 배열할 수 있으며 고상 상태에서 공정이 진행함에 따른 열 발생을 줄여 제작의 안정성을 높여 정밀한 마이크로 금속형상 제작에 유리하다.

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표제어: PCR

동의어: Packet Collision Rate

용어 설명 출처 목록 (6)

용어 설명: PCR은 세균 특이성이 있는 primer를 이용하여 적은 수의 세균이 있을지라도 쉽게 검출할 수 있는 유용한 방법이며, 이를 이용하여 구강 내 치면세균막이나 타액에서 직접 세균을 검출할 수 있게 되었다[8].

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