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[국내논문] 입자/가스상 오염물질 필터링 시스템 원문보기

空氣淸淨技術 = Air cleaning technology, v.21 no.1 = no.80, 2008년, pp.42 - 51  

남승백 ((주)신성이엔지 기술연구소)

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문제 정의

  • 여기에서는 그동안 일본의 “공기청정 및 contamination control 대회”에 발표된 관련 논문을 검토하여 내용을 정리하여 보았다.
  • 연구되고 클린룸에 적용되어 왔다. 연구에서는 반도체, FPD 산업 및 정밀제품 제조 분야에서 황사와 같은 외부 환경에 의해 발생되는 입자 (particle) 상태나 가스(gas) 상태의 오염물질을 동시에 제거할 수 있는 장비를 개발하고자 하였다. 따라서 가스상 오염물질과 입자상 오염물질로부터 발생되는 제품의 수율저하를 방지하기 위한 청정공기 공급 시스템을 설계하고 풍동시스템을 제작하여 입자/가스상 오염물질 제거에 대한 성능평가를 수행하였다.
  • 1 ㎛기준)의 효율을 보여야 제품화가 가능할 것으로 예상한다. 따라서 향후 연구목표는 일반적인 공조기의 풍속에서 80% 이상(0.1 ㎛기준)효율을 달성하는 것이다.
  • 그러나 외기의 상황이 계절별로 변동하고 특히 외기 중에 알칼리성 가스보다는 산성 가스가 다량 포함되어 있어 에어와셔를 순환하는 물은 pH가 낮은 쪽으로 변화할 가능성이 높다. 따라서 이러한 경우에 대비하여 pH 변화에 따른 제거 대상 가스의 제거성능에 대한 기초자료를 확보할 필요성이 있는 것이다. 본 실험결과에 의하면 에어와셔에서 제거대상가스인 NH& SOx, NOx 에 대하여 총괄제거효율을 높이기 위해서는 pH 를 6~6.
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