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NTIS 바로가기한국재료학회지 = Korean journal of materials research, v.19 no.2, 2009년, pp.68 - 72
박연현 (인제대학교 나노공학부) , 주영우 (인제대학교 나노공학부) , 김재권 (인제대학교 나노공학부) , 노호섭 (인제대학교 나노공학부) , 이제원 (인제대학교 나노공학부)
This study investigated dry etching of acrylic in capacitively coupled
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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축전 결합형 플라즈마 시스템의 특징은? | 식각용 시스템은 축전형 플라즈마 시스템 이외에도 고밀도의 플라즈마를 발생시킬 수있는 유도결합 플라즈마(Inductively Coupled Plasma) 시스템과 전자 사이클로트론 공진(Electron Cyclotron Resonance) 시스템 그리고 트라이오드(Triode) 시스템 등이 있지만, 이러한 시스템들은 수 십 미리토르 이하의 고진공 공정 압력을 사용하여야 제대로 된 효과를 얻을 수 있다. 그러나 축전 결합형 플라즈마 시스템은 30-300 mTorr의 비교적 높은 가스 압력 또는 저진공 에서도 쉽게 플라즈마를 발생시키며 사용에 용이하여 향후 고분자의 건식 식각에서 널리 이용할 것으로 생각한다.10-11) | |
고분자 소재는 어떤 것으로 사용할 수 있는가? | 고분자 소재는 향후 전자 소재, MEMS 소재 및 의료용 바이오 칩 등으로 사용할 수 있다. 특히 초소형 소자 제작을 위해 고분자 박막의 증착 및 식각 기술을 이용하여 미세 패턴을 만드는 것은 중요한 기술이다. | |
아크릴의 습식 식각을 위해 어떤 것들을 생각해야하는가? | 먼저 아크릴의 습식 식각을 위해서는 다음의 문제들을 생각해 보아야한다. 첫째, 아크릴을 습식 식각할 수 있는 적절한 용액을 찾아야 한다. 둘째, 습식 식각에 견디는 마스크로 사용할 수 있는 적절한 소재를 개발해야 한다. 아크릴의 식각용 용액으로는 NaCl 등이 시도되고 있다. |
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