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인포메이션 디스플레이 = Information display, v.10 no.5, 2009년, pp.33 - 38
정창호 (디엠에스 연구소) , 양재영 (디엠에스 연구소) , 이진향 (디엠에스 연구소) , 최정욱 (디엠에스 연구소) , 김덕수 (디엠에스 연구소) , 박춘성 (디엠에스 연구소)
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| 핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
|---|---|---|
| 임프린트 공정기술이란? | 임프린트 공정기술은 나노 혹은 마이크로급 구조물이 패턴된 스탬프(몰드)를 레지스트가 코팅된 기판에 Contact & Release하여 스탬프의 구조물을 기판위에 전사하는 기술이다 [그림 1]. 나노임프린트 공정은 1995년 프린스턴 대학의 Chou교수[1~2]가 최초로 제안하였으며, 이후 1996년에는 Haisma [3]에 의해 자외선 경화방식 나노임프린트가 제안되었다. | |
| 노광공정은 어떠한 이유로 비용절감에 대한 연구가 활발히 이루어졌는가? | 한편 디스플레이 패널 제작에서 사용되는 노광공정은 고가의 장비비용과 마스크 비용을 포함하는 고가의 Running Cost로 인하여, 그 비용절감에 대한 연구개발이 활발히 이루어져왔다. 최근 이러한 고가의 노광공정을 Direct 프린팅 공정으로 대체하고자하는 연구가 활발히 이루어지고 있으며, 잉크젯 프린팅에 의한 LCD RGB 프린팅이 양산화 단계에까지 도달하게 되었다. | |
| 초저가의 나노임프린트 장비기술을 바탕으로 한 나노임플란트 분야는 어떠한 기술적 장벽이 존재하는가? | 이러한 상황에서 초저가의 나노임프린트 장비기술이 주목받고 있으며, [그림 2]와 같은 국외 기업들을 필두로 [그림 3]과 같은 국내기업들에서도 경쟁적으로 나노임프린트 장비가 시판되고 있다. 이러한 장비기술을 바탕으로 나노임프린트 분야에서는 레지스트 재료, 스탬프 등에 대한 활발한 연구개발이 진행되고 있으나, 전자빔 리소그래피를 이용하여 수십나노급 선폭의 복잡한 패턴을 갖는 스탬프를 제작해야하는 기술적 비용적 문제와, 스탬프-기판간 정렬문제(Align), 레지스트 잔류층(Residual Layer) 제거 등 기술적 장벽이 높은 것이 현실이기도 하다. |
S.Y. Chou, P.R. Krauss and P.J. Renstrom, Science 272(5258), 85-87 (1996)
S.Y. Chou, P.R. Krauss and P.J. Renstrom, J. Vac. Sci. Tech. B., 14(6), 4129-4133 (1996)
J. Haisma and M. Verheijen and K. Heuvel, J. Vac. Sci. Tech. B., 14(6), 4124-4128 (1996)
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