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네가티브 포토레지스트용 아크릴레이트계 바인더 합성
Synthesis of Acrylate Binders for Negative Photoresist 원문보기

반도체및디스플레이장비학회지 = Journal of the semiconductor & display equipment technology, v.8 no.3, 2009년, pp.25 - 30  

김난수 (한국기술교육대학교 응용화학공학과) ,  남병욱 (한국기술교육대학교 응용화학공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

In this study, we synthesized novel UV-curable binders and applied for negative photoresist of display device. First, we synthesized UV-curable binders by radical polymerization with a mixture of Styrene/Methyl methacrylate/Methacrylic acid/Glycidyl methacrylate/N-Cyclohexylmaleimide at a fixed comp...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구는 지식경제부의 지역혁신센터사업(RIC) 및 롬엔드하스사의 장비 및 연구비 지원으로 수행 되었음을 밝혀 둡니다.
  • 본 연구에서는 LCD의 유기 소재인 네가티브 포토레지스트의 메인 바인더로 사용 될 고분자를 합성하였다. 또한 유기 재료의 열적 성질, 접착성 등을 좋게하고[11], 포토레지스트의 에칭 내성을 향상시키기 위하여[12] Styrene을 도입하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
포토레지스트의 근간은? 반도체 및 LCD(Liquid Crystal Display)의 patterning 소재에 사용되는 다양한 포토레지스트 는 근간을 고분자에 두고 있으며, 최근 반도체의 node size가 축소됨에 따라 요구되는 고분자는 초기 Novolac, Polyhydroxystyrene(PHS)으로부터 다 양한 특성을 가진 물질인 Polymethylmethacrylate(PMMA) 계로 전화되고 있다[1,2].
신규 고분자의 특성을 파악하기 위해 한 것은? 첫째로 고분자의 Acid Value(A.V.) test를 진 행하여각 고분자의 Acid Value 값을 얻었으며, Gel permeation chromatography(GPC, Agilent Technologies 1200 series, Polystyrene standard)를 이용하여 Molecular weight(Mw)와 Polydispersity index(PDI)를 측정하였다. 이때 용매로는 THF(Tetrahydrofuran)을 사용하였으며, Polystyrene 표준시료를 이용하여 Calibration을 하였다. 한편, 고분자 내의 작용기 해석을 위하여 Infra -red spectrometer(Bio Rad, IR-spectrometer) 분석을 수행하였다. 범위는 4000~400cm-1로 하였고, scan 수는 16, resolution은 8로 분석하였다. 또한 고분자의 화학구조 해석을 위해 1H-NMR (JEOL Ltd. JNM-AL400, 공명 주파수:400Hz) 분석을 시행하였다. 그 밖에도 신규 고분자의 열적 성질을 알아보 기 위해 열분석을 진행하였다. Differential scanning calorimeter(DSC, Perkin Elmer, Diamond DSC) 분석은 질소 분위기에서 진행되었으며, 0℃에서 300℃까지 20℃/min의 승온속도로 분석 진행하였다. 다음으로 각 고분자의 열적 안정성을 살펴보 기 위하여 Thermal gravimetric analyzer(TGA, TA Instrument, TGA 2050) 분석을 실시 하였다. 분석은 질소 분위기에서 진행되었으며, 상온에서 700℃까지 20℃/min의 승온 속도로 분석을 진행 하였다.
LCD 재료에 중요한 것은? 여기에 LCD 재료의 특성상, 경제성 측면까지 고려되어야 하므로 소재의 근본을 이루는 최적의 고분자를 확보하고 정확한 물성을 파악하는 것이 야 말로 매우 기초적이면서도 절대적이라 할 수 있다.
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참고문헌 (17)

  1. Wen-Yen Chiang, Hsin-Te Kuo, “Preparation of trimethylsilyl group containing copolymer for negativetype photoresists that enable stripped by an alkaline solution”, European Polymer Journal, Vol. 38, pp. 1761-1768, 2002. 

  2. Tsuey-Lin Tsai, Chun-Chih Lin, Gia-Luen Guo, Tieh-Chi Chu, “Effects of microwave-assisted digestion on decomposition behavior of polymethyl methacrylate (PMMA)”, Materials Chemistry and Physics, Vol. 108, pp. 382-390, 2008. 

  3. K. Tsuda, “Colour filters for LCDs”, Displays, Vol. 14, pp. 115-124, 1993. 

  4. Elsa Reichmanis, Larry F. Thompson, “Polymers in Microlithography”, ACS series, No. 412, pp. 1-24, 1989. 

  5. R. Balagi, D. Grande, S. Nanjundan, “Photoresponsive polymers having pendant chlorocinnamoyl moieties : synthesis, reactivity ratios and photochemical properties”, Polymer, Vol. 45, pp. 1089-1099, 2004. 

  6. Paavo Jalonen, “A new concept for making fine line substrate for active component in polymer”, Microelectronics Journal, Vol. 34, pp. 99-107, 2003. 

  7. Chih-Kang Lee, Trong-Ming Don, Wei-Chi Lai, Chin-Chung Chen, Dar-Jong Lin, Liao-Ping Cheng, “Preparation and properties of nano-silica modified negative acrylate photoresist”, Thin Solid Films, Vol. 516, pp. 8399-8407, 2008. 

  8. Ram W. Sabnis, “Color filter technology for liquid crystal displays”, Displays, Vol. 20, pp. 119-129, 1999. 

  9. Kazuyuki Sugita, “Application of photodegradable polymers to imaging and microfabrication technologi-es: a review of recent research papers in the last 4 years”, Progress in Organic Coatings, Vol. 31, pp. 87-95, 1997. 

  10. Chun-Chang Wu, Steve Lien-Chung Hsu, Wen-Chang Liao, “A photo-polymerization resist for UV nanoimprint lithography”, Microelectronic Engineeri -ng, Vol. 86, pp. 325-329, 2009. 

  11. S.B. Jung, S.H. Lee and H.W. Lee, “Synthesis and characterization of Novolac resin for semiconductor process”, Journal of Natural Science, Vol. 15, pp. 245-253, 1996. 

  12. Constantinos D. Diakoumakos, Ioannis Raptis, Angeliki Tserepi, Panagiotis Argitis, “Free radical synthesis of narrow polydispersed 2-hydroxyethyl methacrylatebased tetrapolymers for dilute aqueous base developable negative photoresists”, Polymer, Vol. 43, pp. 1103-1113, 2002. 

  13. K. Ueda, S. Shioda, H. Nishijima, T. Mukaiyama, S. Mitsuhashi, “Photosensitive resin composition and color filter”, U.S. Patent No. 6,558,858, 6 May 2003. 

  14. M. Sato, M Iwasaki, F. Shinozaki, K. Inoue, “Image formation method using a photosensitive transfer material”, U.S. Patent No. 5,397,678, 14 Mar. 1995. 

  15. K. Ueda, S. Shioda, H. Nishijima, T. Mukaiyama, S. Mitsuhashi, “Photosensitive resin composition and color filter”, U.S. Patent No. 6,432,614, 13 Aug. 2002. 

  16. K. Nakamura, S. Sega, “High photo-sensitivity curable resin, photo-curable resin composition”, U.S. Patent No. 6,582,862, 24 Jun. 2003. 

  17. T. Sumino, A. Inoue, “Photosensitive resin composition and liquid crystal display color filter”, U.S. Patent No. 6,680,763, 20 Jan. 2004. 

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