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NTIS 바로가기조선자연과학논문집 = Journal of the chosun natural science, v.2 no.4, 2009년, pp.252 - 264
김성훈 (동우화인켐 전자재료연구소) , 김상태 (동우화인켐 전자재료연구소)
Lithographic data obtained from PHS(polyhydroxy styrene) having various functionalities were investigated by using a photoacid generator based on diazo and onium type. Chemically amplified photoresist based on the KrF type photoresist was developed by using a photoacid generator and multi-functional...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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포지티브형와 네가티브형 포토레지스트는 어떤 차이가 있는가? | 그림 1에서는 포토레지스트의 감광된 부분의 현상액에 대한 용해도에 따라 포지티브형와 네가티브형 포토레지스트로 나뉜다. 포지티브 포토레지스트는 노광된 부분이 현상액에 용해되며, 네가티브 포토레지스트는 노광된 부분이 녹지 않고 노광되지 않은 부분이 용해되어 나타난다. | |
화학증폭형 포토레지스트란 무엇인가? | Deep UV를 광원으로 사용하는 리소 그래피법으로 발전함에 따라 포토레지스트를 화학증폭형(chemically amplified) 기작을 이용하여 사용하기 시작했다. 화학증폭형 포토레지스트는 양자 수율이 100% 보다 큰 포토레지스트를 의미하는 것으로 protecting-deprotecting 반응이라고도 한다. 사용되는 고분자는 PHS(polyhy-droxystyrene) 고분자와 photoacid generator(PAG)를 기본으로 contrast 향상 및 용해도 조절을 위한 반응 금지제를 사용한다. | |
화학증폭형 포토레지스트에 사용되는 고분자는 무엇인가? | 화학증폭형 포토레지스트는 양자 수율이 100% 보다 큰 포토레지스트를 의미하는 것으로 protecting-deprotecting 반응이라고도 한다. 사용되는 고분자는 PHS(polyhy-droxystyrene) 고분자와 photoacid generator(PAG)를 기본으로 contrast 향상 및 용해도 조절을 위한 반응 금지제를 사용한다. 화학증폭형 포토레지스트의 작용 기작은, 엑시머 레이져 노광에 의해 PAG로부터 발생된 산이 확산하며 이후 이어지는 post exposure bake(PEB) 과정에서 t-BOC 또는 protecting group을deprotecting 시키는 반응을 통해 보호기가 수산화기로 치환된다. |
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