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문제 정의
- 그런데 여기서 중요한 것은 형성된 나노 리플과 가공진행 방향이 수직인 경우(threshold = 120 nJ) 가수평(Threshold = 130 nJ)인 경우에 비해서 가공이 좁고 깊게 됨을 알 수 있었다. 나노 리플과 가공 진행 방향이 수직이거나 수평일 때의 가공율(etching rate)이 다르게 되고 이것이 원형 홀을 가공하는데 있어서 중요한 변수가 될 것으로 예측하고 본 연구에서 나노 리플과 가공 진행 방향이 SUS 홀 가공에 미치는 영향을 실험적으로 분석하였다.
- ' 전통적으로 리플 방향은레이저 빔의 편굉~에 수직(perpendicular)한 방향으로 형성이 된다. 본 논문에서는 편광에 따른 펨토초 레이저의 다양한 가공 조건에 따른 나노 리플의 생성을 실험적으로 확인하였으며, SUS 기판 홀 가공 특성을 연구하였다. 또한, 원편광을 이용하여 홀 가공시 발생되는 편광 의존성을 어느 정도 해결할 수 있음을 실험적으로 보였다.
- 본 연구에서는 펨토초 레이저를 SUS 표면에 조사하여 생성되는 나노 리플과 이것이 홀 가공에 미치는 영향을 실험적으로 분석하였다. 리플은 레이저 광원의 편광에 수직한 방향으로 생성이 되며 공간적인 리플의 주기는 파장과 물질에 의존적이다.
- 중요한 요소이다. 본 연구에서도 SUS 표면에 형성되는 나노 리플을 확인하기 위해 여러 레이저 펄스 에너지에서 형성되는 나노 리플을 관측하였다. 펨토초 레이저에 의해서 생성되는 나노 리플은 편광 방향에 수직하게 형성이 된다.
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