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제안 방법
- 표 1. ZnO 와 GZO 박막의 열처리 전후 XRD 분석.
- 그림 2. ZnO박막과 GZO박막의 열처리 전후 XRD 분석.
- 높은 전도도와 투과도를 가지는 ZnO박막과 Ga (wt 1 %) 도핑 된 ZnO박막을 상온에서 스퍼터링방법에 의해 성장하고 분석하였다. 박막 성장 후열처 리 통해 ZnO박막과 GZO박막의 결정입자 크기가 커지고 결정성이 향상되는 결과를 얻었으며, 결정의 크기가 커짐에 따라 결정립계가 감소하고, 이동도가 높아져 전도도가 향상되는 결과를 확인하였다.
- Hall 측정은 Van der Pauw 방법에의해 수행되었다. 박막이 가지는 투과율은 250-1200 nm의 범위에서 UV-VIS-NIR spectrophotometer (Cary 5000 VARIAN) 로 측정하였다.
- 본 연구에서는 투명전극의 응용을 위해 rf magnetron sputtering 방법에 의하여 상온에서 glass 기판위에 ZiiCM믄*과 GZO박막을 성장하고, 열처리 전후의 구조적, 광학적, 전기적 특성을 비교평가 하였다.
- 열처리 전과 후의 박막에 대한 표면구조 상태조사를 위해 FE-SEM (S-4300SE, Hitachi)을 이용하였고, Cu Ka선 (1.54056 A)을 이용한 X-선회절분석 (X'pert Pro diffractometer, PANalytical) 의 반치폭을 통해 결정성 및 결정입자의 크기변화를 측정하였다. Hall 측정은 Van der Pauw 방법에의해 수행되었다.
대상 데이터
- 순수한 ZnO와 Ga 도핑 된 ZnO의 특성평가를 위 해 99.99 % 순도의 ZnO 타겟과 1 wt% 도핑농도의 GZO 타겟을 이용하여 glass 기판위에 RF magnetron sputtering 방법에 의하여 상온에서 증착하였다. 증착은 75 W의 RF power, 5 mTorr의공정압력, 10 seem의 아르곤 (Ar) 분위 기 하에서 진행되었고, 기판은 타겟으로부터 30 cm 거리에 위치에서 2.
이론/모형
- 54056 A)을 이용한 X-선회절분석 (X'pert Pro diffractometer, PANalytical) 의 반치폭을 통해 결정성 및 결정입자의 크기변화를 측정하였다. Hall 측정은 Van der Pauw 방법에의해 수행되었다. 박막이 가지는 투과율은 250-1200 nm의 범위에서 UV-VIS-NIR spectrophotometer (Cary 5000 VARIAN) 로 측정하였다.
- glass 기판위에 증착된 ZnO박막과 GZO박막의표면구조는 FE-SEM을 통해 분석하였다. 그림 1 (a)와 (b)는 각각 ZnO박막과 GZO박막을 300 nm 두께로 성장한 FE-SEM 사진을 보여주고 있으며측정 된 결정입 자의 크기는 ZnO박막이 약 20 nm 이고, GZO박막은 약 10 nm 이다.
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