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기판온도 및 박막두께가 Ga-doped ZnO 박막의 특성에 미치는 영향
Effects of The Substrate Temperature and The Thin film Thickness on The Properties of The Ga-doped ZnO Thin Film 원문보기

電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체, v.47 no.1=no.391, 2010년, pp.6 - 13  

조원준 (인하대학교 전자공학과) ,  강성준 (전남대학교 전기 및 반도체공학과) ,  윤영섭 (인하대학교 전자공학과)

초록
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본 연구에서는 RF 마그네트론 스퍼터링 법으로 Eagle 2000 유리 기판 위에 Ga-doped ZnO (GZO) 박막을 제작하여, 기판온도 $100{\sim}400^{\circ}C$ 및 박막두께에 따른 박막의 결정화 특성과 전기적 및 광학적 특성을 조사하였다. 공정조건에 상관없이 모든 GZO 박막은 c-축 배향성을 나타내는 (002) 회절 피크만이 관찰되었고, $300^{\circ}C$에서 400 nm 증착한 GZO 박막이 가장 우수한 결정성을 나타내었으며, 그 때의 반가폭 값은 $0.4^{\circ}$이었다. 또한, AFM 으로 박막의 표면형상을 분석한 결과 $300^{\circ}C$에서 400 nm 증착한 박막에서 비교적 입자가 고르고 치밀한 박막이 형성되었다. 전기적 특성은 홀 측정결과 $300^{\circ}C$에서 400 nm 증착한 박막에서 가장 낮은 비저항 ($8.01{\times}10^{-4}\;{\Omega}cm$)과 가장 높은 전자 캐리어농도 ($3.59{\times}10^{20}\;cm^{-3}$) 를 나타내었다. 모든 GZO 박막은 공정조건에 무관하게 가시광 영역에서 80 %의 투과율을 나타내었으며, 기판온도 및 박막두께 증가에 따른 Ga 도핑효과의 증가로 밴드 갭이 넓어지는 Burstein-Moss 효과가 관찰되었다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

In this study, Ga-doped ZnO (GZO) thin films have been fabricated on Eagle 2000 glass substrates at various substrate temperatures $100{\sim}400^{\circ}C$ and thin film thickness by RF magnetron sputtering in order to investigate the structural, electrical, and optical properties of the G...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구에서는 GZO 박막을 제작하여 기판온도 및 박막 두께에 따른 구조적, 전기적 및 광학적 특성을 조사 하였다. XRD 측정으로부터 300 ℃에서 400 nm 증착한 GZO 박막이 가장 우수한 (002) 배향성을 나타내었으며 그 때의 반가폭 값은 0.
  • 본 연구에서는 RF magnetron sputtering 법을 사용하여 기판온도 및 박막두께에 따른 GZO 박막의 구조적, 전기적 및 광학적 특성을 조사하여 투명 전자소자로의 응용 가능성을 조사해 보고자 하였다.
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