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Nanoscale NAND SONOS memory devices including a Seperated double-gate FinFET structure 원문보기

신뢰성응용연구 = Journal of the applied reliability, v.10 no.1 = no.29, 2010년, pp.65 - 71  

Kim, Hyun-Joo (Dept. of Information Display, Hanyang University) ,  Kim, Kyeong-Rok (Dept. of Nanoscale Semiconductor Engineering, Hanyang University) ,  Kwack, Kae-Dal (Dept. of Information Display, Hanyang University)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

NAND-type SONOS with a separated double-gate FinFET structure (SDF-Fin SONOS) flash memory devices are proposed to reduce the unit cell size of the memory device and increase the memory density in comparison with conventional non volatile memory devices. The proposed memory device consists of a pair...

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문제 정의

  • This paper reports the novel design of nanoscale NAND-type SONOS with a separated double gate FinFET structure (SDG-Fin SONOS). The proposed SDG-Fin SONOS flash memory devices are combined with advantages of the DG FinFET structure and that of the SONOS flash memory device.
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참고문헌 (14)

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  3. B. G. Park et al(2006), "Novel Device Structures for Charge Trap Flash Memories" IEEE Solid-State and Integrated Circuit Technology, ICSICT '06. 

  4. K. H. Kim and H. J. Lee(2006), "Novel Structures for a 2-Bit per Cell of Nonvolatile Memory Using an Asymmetric Double Gate" IEICE Trans. Electron. E89-C, 578. 

  5. J. Lee et al(2002), "High-Performance 1-Gb NAND Flash Memory With 0.12- ${\mu}m$ Technology" IEEE J. Solid-St. Circ. 37, 1502. 

  6. T. Tanaka et al(1994), "A Quick Intelligent Page-Programming Architecture and a Shielded Bitline Sensing Method for 3 V-Only NAND Flash Memory" J. Solid-St. Circ. 29, 1366. 

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  8. J. Lee et al(2003), "A 90-nm CMOS 1.8-V 2-Gb NAND Flash Memory for Mass Storage Applications" J. Solid-St Circ. 38, 1934. 

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  12. Y. Liu et al(2004), "A highly threshold Voltage-controllable 4T FinFET with an 8.5-nm-thick Si-fin channel" IEEE Electr. Device Lett. 25, 510. 

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  14. S. J. Cho et al(2006), "Design and Optimization of Two-Bit Double-Gate Nonvolatile Memory Cell for Highly Reliable Operation" IEEE Trans. Nanotechnol. 5, 180. 

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