최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.23 no.10, 2010년, pp.747 - 751
우종창 (중앙대학교 전자전기공학부) , 김창일 (중앙대학교 전자전기공학부)
In the study, the characteristics of the etched Zinc oxide (ZnO) thin films surface, the etch rate of ZnO thin film in
* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.
핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
---|---|---|
BCl3/Ar 플라즈마와 Cl2/BCl3/Ar 플라즈마로 ZnO 박막을 식각한 결과, 식각에 있어 가장 큰 영향을 미치는 이온은? | 위의 결과로부터 ZnO 박막의 식각에 있어서 Cl 이온의 효과가 가장 큰 영향을 미치며, Zn-O 의 결합을 깨는 Ar과 Zn-Cl로 결합하는 Cl의 형태가 스퍼터링의 수율을 더욱 증대 시킨다고 판단된다. Ar 가스함유량이 증가할수록 Cl 원자 또는 양이온과 같은 활성종의 체적 밀도와 선속이 선형적으로 변화 된다는 것을 검증하였다. | |
ZnO 박막이 양질의 광소자에 응용이 가능한 이유는? | 최근에 ZnO 박막은 상온에서 광학적 밴드 갭이 3.37 eV로 근자외선 영역의 광원으로 적당하고, cohesive 에너지의 경우 1.89 eV을 가지고 있으며, 결합형성에너지가 높아서 양질의 광소자에 응용이 가능하다. 우수한 특성을 지닌 ZnO 박막을 광소자에 적용시키기 위해 저비용으로 고품질 대구경화를 구현하기 위해서 많은 분야에서 연구가 되어 지고 있지만, 고집적, 초고밀도를 원하는 소자 디바이스를 구현하기 위해서 단위공정에서의 문제점들과 이를 해결하기 위한 방안에 관하여 제대로 제시 되어있지 않은 상태이다 [1-6]. | |
AFM 분석 결과에서 Cl2/BCl3/Ar 플라즈마를 이용하여 식각하였을 때, 표면의 거칠기인 rms 값이 BCl3/Ar 플라즈마로 식각된 시료의 값보다 증가한 이유는? | 그리고 AFM 분석 결과에서 Cl2/BCl3/Ar 플라즈마를 이용하여 식각하였을 때, 표면의 거칠기인 rms 값이 BCl3/Ar 플라즈마로 식각된 시료의 값보다 증가하였다. 이는 ZnO 박막을 구성하는 물질들에 화학적 반응 의한 스퍼터링 수율이 다르게 기인하였고, Cl 라디칼과 반응한식각 부산물의 비휘발성 때문에 기인되어진다고 판단된다. |
D. C. Reynold, D. C. Look, B. Jogai, and H. Morko, Solid State Commun. 101, 643 (1997).
S. Bethke, H. Pan, and B. W. Wessels, Appl. Phys. Lett. 52, 138 (1998).
D. C. Reynolds, D. C. Look, B. Jogai, J. V. Nostrand, R. Ones, and J. Jenny, Solid State Commun. 106, 701 (1998).
K. K. Kim, J. H. Song, H. J. Jung, W. K. Choi, S. J. Park, and J. H. Song, J. Appl. Phys. 87, 3573 (2000).
R. Groenen, M. Creatore, and M. C. M. van de Sanden, Appl. Surf. Sci. 241, 321 (2005).
K. C. Lee and C. Lee, Trans. KIEE 3, 241 (2003).
R. M. Todi, K. B. Sundaram, A. P. Warren, and K. Scammon, Solid-State Electron. 50, 1189 (2006).
D. P. Kim, J. W. Yeo, and C. I. Kim, Thin Solid Films 459, 76 (2004).
S. M. Gu, D. P. Kim, K. T. Kim, and C. I. Kim, Thin Solid Films 475, 313 (2005).
B. J. Lee, H. S. Chung, and K. S. Lee, Trans. KIEE 51, 111 (2002).
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
출판사/학술단체 등이 한시적으로 특별한 프로모션 또는 일정기간 경과 후 접근을 허용하여, 출판사/학술단체 등의 사이트에서 이용 가능한 논문
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.