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MIM 커패시터에서의 정합특성의 온도에 대한 의존성
Temperature Dependence of Matching Characteristics of MIM Capacitor 원문보기

Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea = 전자공학회논문지, v.50 no.5, 2013년, pp.61 - 66  

장재형 (충남대학교 전자공학과) ,  권혁민 (충남대학교 전자공학과) ,  곽호영 (충남대학교 전자공학과) ,  권성규 (충남대학교 전자공학과) ,  황선만 (충남대학교 전자공학과) ,  성승용 (충남대학교 전자공학과) ,  신종관 (충남대학교 전자공학과) ,  이희덕 (충남대학교 전자공학과)

초록
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본 논문에서는 절연물체로 $Si_3N_4$를 사용한 MIM 커패시터의 정합특성의 온도에 대한 의존성에 대해 분석하였다. 온도가 올라감에 따라 정합특성이 열화 되는 현상이 나타났다. 즉, $25^{\circ}C$, $75^{\circ}C$ 그리고 $125^{\circ}C$에서 $Si_3N_4$ MIM 커패시터의 정합특성 계수는 각각 0.5870, 0.6151, $0.7861%{\mu}m$으로 측정 되었다. 이러한 현상은 온도가 증가함에 따라 커패시터 내부의 캐리어들의 이동도가 감소하고 전하의 농도가 많아지기 때문이라고 할 수 있다. 따라서 고온에서의 $Si_3N_4$ MIM 커패시터의 정합특성의 분석은 아날로그 집적회로나 SoC (System on Chip)에 아주 중요하고 필수적인 연구라고 할 수 있다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

In this paper, temperature dependence of matching characteristics of $Si_3N_4$ MIM capacitor was analyzed in depth. The matching characteristics becomes worse as the temperature increases. That is, the matching coefficient of $Si_3N_4$ MIM capacitor at $25^{\circ}C$,...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 따라서 본 논문에서는 FGMT 방법을 이용하여 절연 물질로 실리콘 질화막 (Si3N4)을 사용한 MIM 커패시터의 온도에 따른 정합 특성을 분석하였다.
  • 본 논문에서는 절연물질로 실리콘 질화막(Si3N4)을 사용한 MIM 커패시터의 정합특성을 온도에 따라 비교 분석을 하였다. MIM 커패시터의 정합특성을 25℃, 75℃, 125℃에서 측정하여 비교해 본 결과, 온도가 높아짐에 따라 정합특성이 열화가 되는 것을 확인 하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
아날로그 회로의 집적화를 위해 무엇이 필요한가? 더욱이 최근에 아날로그 소자의 회로의 집적화 및 성능 향상을 위해 능동 소자 뿐만 아니라 수동 소자의 집적화가 진행됨에 따라 수동 소자간의 부정합 오류 (mismatch error)를 정확히 평가하는 것이 매우 중요해지고 있다[4]. 특히 아날로그 회로의 집적화를 위해서는 다른 소자들에 비해 많은 면적을 차지하고 있는 커패시터의 크기를 줄이는 것이 매우 필요하다고 할 수 있다. 하지만 MIM 커패시터의 면적과 정합 특성은 trade-off 관계를 갖기 때문에 MIM 커패시터의 정합특성에 대한 연구는 매우 중요하다고 할 수 있다[5].
FGMT의 장점은 무엇인가? 최근 아날로그 회로에서는 미세한 정전 용량을 요구하는 회로가 많아지면서 기존의 연구로는 면적이 작아진 커패시터의 정전 용량에 대한 평가를 LCR meter로 측정하는데 한계가 발생하게 되었다. 따라서 최근에 미세한 정전 용량을 측정하기 위한 FGMT(Floating Gate Measurement Technique), CBCM(Charge-Based Capacitance Measurement)와 같은 방법이 제안되고 있으며, 특히 FGMT의 측정 방법은 source follower의 parasitic 커패시터의 영향을 없앨 수 있기 때문에 좀 더 정확한 정합 특성을 추출해 낼 수 있다고 알려져 있다[5~8]. 이러한 기존의 정합특성에 대한 논문들은 주로 상온에서 이루어져 왔다.
차동 쌍 구조를 가지는 회로에서 소자 간 정합 특성이 중요한 이유는 무엇인가? 아날로그 회로에서 널리 사용되는 differential amplifier, current mirror, voltage divider, band-gap voltage references, feedback networks, DAC, ADC 등에서는 주로 두 개 이상의 소자가 pair로 구성되는 차동 쌍(differential pair)을 많이 사용하고 있다. 이런 회로에서 두 소자가 정밀한 정합 특성을 갖지 않는다면 회로의 성능이 저하되거나 심한 경우 오동작을 일으킬수 있으므로 소자 간 정합 특성은 무엇보다 중요하다고할 수 있다[1∼2]. 일반적으로 디지털 회로에서는 소자 간의 변수 차이가 출력부분에 큰 영향을 미치지 않지만, 아날로그 회로에서는 동작에 큰 영향을 미치게 된다.
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참고문헌 (15)

  1. H. P. Tuinhout, "Design of Matching Test Structures," IEEE Conf. on Microelectronic Test Structures, pp. 21-27, San Diego, USA, Mar. 1994. 

  2. M. J. M. Pelgrom, A. C. J. Duinmaijer and A. P. G. Welbers, "Matching Properties of MOS Transistors," IEEE Journal of Solid-State Circuits, Vol. 24, No. 5, pp. 1433-1440, Oct. 1998. 

  3. K. R. Lakshmikumar, R. A. Hadaway and M. A. Copeland, "Characterization and modeling of mismatch in MOS transistors for precision analog design," IEEE Journal of Solid-State Circuits, Vol. 21, No. 6, pp. 1057-1066, Dec. 1986. 

  4. L. Pileggi, G. Keskin, X. Li, K. Mai and J. Proesel, "Mismatch Analysis and Statistical Design at 65nm and below," IEEE Conf. on Custom Integrated Circuits, pp. 9-12, California, USA, Sept. 2008. 

  5. H. P. Tuinhout, H. Elzinga, J. T. Brugman and F. Postma, "The Floating Gate Measurement Technique for Characterization of Capacitor Matching," IEEE Trans. on Semiconductor Manufacturing, Vol. 9, No. 1, pp. 2-8, Feb. 1996. 

  6. 장재형, 권혁민, 정의정, 곽호영, 권성규, 이환희, 고성용, 이원묵, 이성재, 이희덕, "MIM 구조를 갖는 $Al_{2}O_{3}/HfO_{2}/Al_{2}O_{3}$ 캐패시터의 정합특성 분석," 전기전자재료학회 논문지, Vol. 25, No. 1, pp. 1-5, Jan. 2012. 

  7. J. Hunter, P. Gudem and S. Winters, "A Differntial Floating Gate Capacitance Mismatch Measurement Technique," IEEE Conf. on Microelectronis Test Structures, pp. 142-147, California, USA, Mar. 2000. 

  8. H. Zhao. R. Kim, A. Paul, M. Luisier, G. Klimeck, F. J. Ma, S. C. Rustagi, G. S. Samudra, N. Singh, G. Q. Lo and D. L. Kwong, "Characterization and Modeling of Subfemtofarad Nanowire Capacitance Using the CBCM Technique," IEEE Electron Device Letters, Vol. 30, No. 5, pp. 526-528, May. 2009. 

  9. P. Andricciola and H. P. Tuinout, "The Temperature Dependence of Mismatch in Deep-Submicrometer Bulk MOSFETs," IEEE Electron Device Letters, Vol. 30, No. 6, pp. 690-692, Jun. 2009. 

  10. J. G. Hyun, S. Y. Lee, S. D. Cho and K. W. Paik, "Frequency and Temperature Dependence of Dielectric Constant of Epoxy/ $BaTiO_{3}$ Composite Embedded Capacitor Films (ECFs) for Organic Substrate," Electronic Components and Technology Conference, pp. 1241-1247, Jun. 2005. 

  11. H. Hu, C. Zhu, Y. F. Lu, M. F. Li, B. J. Cho and W. K. Choi, "A High Performance MIM capacitor Using $HfO_{2}$ Dielectrics," IEEE Electron Device Letters, Vol. 23, No. 9, pp. 514-516, Sept. 2002. 

  12. S. Becu, S. Cremer, O. Noblanc, J. L. Autran and P. Delpech, "Characterization and Modeling of $Al_{2}O_{3}$ MIM capacitors : Temperature and Electrical Field Effects," IEEE Conf. on Solid State Device Research, pp. 265-268, Grenoble, France, Sept. 2005. 

  13. C. Zhu, H. Hu, X. Yu, S. Kim, A. Chin, M. F. Li, B. J. Sho and D. L. Kwong, "Voltage and Temperature Dependence of Capacitance of High-k $HfO_{2}$ MIM Capacitors : A Unified Understanding and Prediction," IEEE International Electron Devices Meeting, pp. 36.5.1-36.5.4, Dec. 2003. 

  14. S. U. Park, C. Y. Kang, H. M. Kwon, B. S. Park, W. H. Choi, I. S. Han, G. Bersuker, R. Jammy and H. D. Lee, "Analysis of reliability characteristics of high capacitance density MIM capacitors with $SiO_{2}-HfO_{2}-SiO_{2}$ dielectrics," Microelectronic Engineering, Vol. 88, pp. 3389-3392, Dec. 2011. 

  15. S. U. Park, H. M. Kwon, I. S. Han, Y. J. Jung, H. Y. Kwak, W. I. Choi, M. L. Ha, J. I. Lee, C. Y. Kang, B. H. Lee, R. Jammy and H. D. Lee, "Comparison of Multilayer Dielectric Thin Films for Future Metal-Insulator-Metal Capacitors : $Al_{2}O_{3}/HfO_{2}/Al_{2}O_{3}$ versus $SiO_{2}/HfO_{2}/SiO_{2}$ ," Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 50, No. 10, pp. 10PB06-10PB06-4, Oct. 2011. 

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