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반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.9 no.2, 2010년, pp.91 - 96
김남웅 (동양미래대학 기계공학부) , 김국원 (순천향대학교 공과대학 기계공학과) , 이우영 (한국기술교육대학교 기계정보공학부)
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In recent years there have been considerable attentions on nanoimprint lithography (NIL) by the display device and semiconductor industry due to its potential abilities that enable cost-effective and high-throughput nanofabrication. Although one of the current major research trends of NIL is large-a...
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| 핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
|---|---|---|
| NIL란 무엇인가? | 나노 임프린트 리소그래피(Nanoimprint Lithography, NIL) 공정은 1990년대 중반 Chou 등[1,2]에 의해 최초 제안된 이래, 반도체 및 디스플레이 산업에서 기존 고가의 포토 리소그래피 공정을 대체할 수 있는 유력한 대안으로 활발한 연구가 이루어지고 있다. NIL은 몰드 (혹은 스탬프)에 기 형성되어 있는 나노 구조의 패턴 형상을 기계적 가압을 통해 반복적으로 기판에 전사시키는 기술로서, 사용되는 레지스트의 종류 및 경화시키는 방법에 따라 대체적으로 열 나노임프린트 리소그래피 (Thermal NIL)와 자외선 나노임프린트 리소그래피 (UV NIL)로 구별된다[3,4]. 이중 특히, UV NIL은 상온 및 저압 조건에서 공정이 이루어지기 때문에 생산성 면에서 Thermal NIL에 비해 강점을 갖는다. | |
| 압력분포의 정량적 계산이 공정 최적화의 기본이 될 수 있는 근거는? | 고무의 경도가 높아질수록 압력 구배차가 보다 심해지고 최대응력 및 평균 응력이 동반 상승하는 것을 잘 나타내고 있다. 롤링 임프린팅 공정에서 롤링 공정 중 발생하는 압력의 크기, 특히 최대 압력의 크기는 레지스트의 잔류층 불균일을 최소화하고 공정을 고속화 하는데 주요한 역할을 하는 공정변수이다. 따라서 압력분포의 정량적 계산은 공정 최적화의 기본이 될 수 있다. | |
| NIL는 어떻게 구분되는가? | 나노 임프린트 리소그래피(Nanoimprint Lithography, NIL) 공정은 1990년대 중반 Chou 등[1,2]에 의해 최초 제안된 이래, 반도체 및 디스플레이 산업에서 기존 고가의 포토 리소그래피 공정을 대체할 수 있는 유력한 대안으로 활발한 연구가 이루어지고 있다. NIL은 몰드 (혹은 스탬프)에 기 형성되어 있는 나노 구조의 패턴 형상을 기계적 가압을 통해 반복적으로 기판에 전사시키는 기술로서, 사용되는 레지스트의 종류 및 경화시키는 방법에 따라 대체적으로 열 나노임프린트 리소그래피 (Thermal NIL)와 자외선 나노임프린트 리소그래피 (UV NIL)로 구별된다[3,4]. 이중 특히, UV NIL은 상온 및 저압 조건에서 공정이 이루어지기 때문에 생산성 면에서 Thermal NIL에 비해 강점을 갖는다. |
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