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NTIS 바로가기電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체, v.48 no.5 = no.407, 2011년, pp.6 - 11
문세호 (호서대학교 전자공학과) , 채상훈 (호서대학교 전자공학과) , 손영수 (한국기계연구원 나노융합시스템연구본부)
We have developed dissolved ozone decompose system in the used ozonated water for the semiconductor and LCD fabrication processes, which will be base of obtaining core process technology in the high performance, low price semiconductor and LCD fabrications. Using this technology, it is possible for ...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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오존수는 어떻게 알려져 있는가? | 오존수는 강력한 산화력으로 인하여 일정한 반감기 (half life time)를 갖는다고 알려져 있다. 사용된 세정수에 용해되어 있는 오존은 상온 상태에서 일정한 시간이 지나면 비교적 빠르게 붕괴되어 산소로 환원되는 특징이 있지만, 강력한 산화력으로 인하여 배출 배수관을 부식시킬 우려가 있다. | |
화학적 오염 제거 방법은 무엇을 다량 사용하는가? | 개발된 기술 중에는 대량생산에 따른 생산성 향상을 위하여 화학적 세정 방법이 오염 제거 방법으로 주로 사용되고 있다. 이러한 화학적 오염 제거 방법은 화학 약액을 다량 사용하게 된다. 화학 약액은 폐수의 배출을 수반하여 환경 처리 비용 부담으로 작용하게 되므로 환경 비용이 생산 코스트에 반영되어 반도체 및 LCD 제품 가격에 고비용 요소로써 반영될 뿐만 아니라, 반도체 제조 시설에 대한 주변 환경에 영향을 미칠 수 있다. | |
오존의 분해 촉진 방법 중 촉매 분해법의 특징 및 장단점은? | - 촉매 분해법 : TiO2계 또는 MnO2계 촉매사용 장점 : 간단하고 저렴 단점 : 표면오염 시 급격한 성능 감소, 화약용액 혼합 시에 사용 곤란 |
김한성, 차안정, 배재흠, 이호열, 이명진, 박병덕, "수계/준수계 세정제의 개발 및 전자부품세정공정 적용연구", Clean Technolgy, 제10권 제2호, 61-72쪽, 2004년 10월.
손영수, 채상훈, "PR 제거공정 적용을 위한 오존수 생성기술 연구", 전자공학회 논문지, 제41권 SD편 제12호, 13-19쪽, 2004년 12월.
문세호, 채상훈, "반도체/LCD PR 제거용 EC의 재이용 기술에 관한 연구", 전자공학회 논문지, 제46권 SD편 제10호, 25-30쪽, 2009년 10월.
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