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DC 마그네트론 스퍼터링 방법에 의해 증착된 Mo 박막의 특성
Characteristics of Mo Thin Films Deposited by DC Magnetron Sputtering 원문보기

Korean chemical engineering research = 화학공학, v.49 no.2, 2011년, pp.195 - 199  

공선미 (인하대학교 화학공학과) ,  소우빈 (인하대학교 화학공학과) ,  김은호 (인하대학교 화학공학과) ,  정지원 (인하대학교 화학공학과)

초록
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DC 마그네트론 스퍼터링 방법을 이용하여 soda lime glass 위에 Mo 박막을 증착하였다. DC power와 증착 압력을 변화시키면서 상온에서 Mo 박막을 증착하였고 증착된 박막의 전기적 성질 및 구조적 성질을 조사하였다. DC power가 증가할수록 박막의 증착속도는 증가되었고 전기 저항도는 감소하였으며 박막의 결정성이 향상되는 것을 관찰할 수 있었다. 증착 압력이 감소할수록 박막의 증착속도와 전기 저항도가 감소하였으며 가늘고 긴 모양의 결정입자가 조밀하게 박막을 형성하였다. 압력이 증가함에 따라서 결정입자는 원형으로 변형되었으며 박막의 표면에 공극의 생성이 증가하였다. Mo 박막의 전기 저항도는 Mo 원자에 결합된 산소의 양이 많아질수록 증가하게 되고, 박막의 결정성이 높아지면 산소의 결합도가 감소하여 낮은 저항도를 갖게 되는 것을 확인하였다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Mo thin films were deposited on soda lime glass at room temperature by using DC magnetron sputtering The electrical and structural properties of the films were investigated by varying DC power and gas pressure as the deposition parameter. As DC power increased, the deposition rate of Mo films was in...

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문제 정의

  • [1-6]. 본연구에서는 Mo 배면전극을 DC 마그네트론 스퍼터링 법을 이용하여 Mo 박막을 증착하였고 Mo 박막의 특성 조사 및 특성의 향상을 위해 DC power와 증착 압력을 다양한 조건으로 변화시키면서 증착된 Mo 배면전극의 전기적 특성 및 구조적 특성을 조사하여 최적의 증착 조건을 도출하고자 하였다.
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참고문헌 (12)

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