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NTIS 바로가기한국표면공학회지 = Journal of the Korean institute of surface engineering, v.44 no.4, 2011년, pp.137 - 143
The internal stress and magnetic properties (coercivity and squareness) of Ni-Fe nano thin film synthesized by electrodeposition method were studied as a function of acidic chloride bath conditions (composition and temperature) and current density. Fe deposition patterns were different depending on ...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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Ni-Fe 합금 박막재료가 컴퓨터 하드 드라이브의 헤드와 MEMS 등에 널리 사용되는 이유는? | Ni-Fe 합금 박막재료는 높은 부식에 대한 안정성과 우수한 자기적 특성 때문에 컴퓨터 하드 드라이브의 헤드와 magnetic microelectromechanical system(MEMS) 등에 널리 사용되어지고 있는 연자성 재료이다1,2). | |
나노박막을 제조하는 방법은? | 이러한 나노박막을 제조하는 방법에는 전기도금공정(electrodeposition)과 무전해도금공정과 같은 의한 도금제조방법(습식)과 진공공정(건식)에 의한 제조방법이 있는데 전기도금에 의한 제조기술은 상온상압에서 비교적 저렴한 장비와 간편한 공정제어를 통해 빠른 도금속도로 복잡하고 정밀한 형상의 박막을 제조할 수 있고 제조되는 자성합금의 미세구조와 성분조절이 용이한 장점이 있어 최근 컴퓨터 R/W head3-6), microelectromechanical systems(MEMS)7,8), ULSI 소자9) 및 센서 제조 등에 널리 사용되고 있다. | |
전기도금법의 장점은? | 이러한 나노박막을 제조하는 방법에는 전기도금공정(electrodeposition)과 무전해도금공정과 같은 의한 도금제조방법(습식)과 진공공정(건식)에 의한 제조방법이 있는데 전기도금에 의한 제조기술은 상온상압에서 비교적 저렴한 장비와 간편한 공정제어를 통해 빠른 도금속도로 복잡하고 정밀한 형상의 박막을 제조할 수 있고 제조되는 자성합금의 미세구조와 성분조절이 용이한 장점이 있어 최근 컴퓨터 R/W head3-6), microelectromechanical systems(MEMS)7,8), ULSI 소자9) 및 센서 제조 등에 널리 사용되고 있다. |
F. E. Atalay, H. Kayaa, S. Atalay, S. Tari, J. Alloys and Com. and Phys., 458 (2009) 469.
V. S. Rania, S. S. Yoon, B. P. Raoc, C. Kim, Mater. Chem. and Phys., 112 (2008) 1133.
R. L. White, R. M. H. New, R. F. W. Pease, IEEE Trans. on Magnetics, 33 (1997) 990.
T. Osaka, Electrochim. Acta, 44 (1999) 3885.
E. Gomez, E. Pellicer, E. Valles, Electrochem. Comm., 7 (2005) 275.
E. I. Cooper, C Bonhote, J. Heidmann, Y. Hsu, P. Kern, J. W. Lam, M. Ramasubramanian, N. Robertson, L. T. Romankiw, H. Xu, IBM J. Res. Develop., 49 (2005) 103.
F. E. Rasmussen, J. T. Ravnkilde, P. T. Tang, Sensors and Actuators A, 92 (2001) 242.
S. Guan, B. J. Nelson, J. Electrochem. Soc., 152 (2005) C90.
A. Kohn, M. Eizenberg, Y. Sverdlov, Mater. Sci. Eng. A, 302 (2001) 18.
A. Brenner, Electrodeposition of Alloys, Academic Press New York, (1963) 84.
N. Zech, E. J. Podlaha, D. Landolt, J. Electrochem. Soc., 146 (1999) 2886.
N. Zech, E. J. Podlaha, D. Landolt, J. Electrochem. Soc., 146 (1999) 2892.
N. V. Myung, L. Lim, J. P. Fluerial, M. Yun, W. West, D. Choi, Nanotechnology, 15 (2004) 833.
J. Vaes, J. Fransaer, J.-P. Celis, J. Electrochem. Soc., 147 (2000) 3718.
J. Vaes, J. Fransaer, J.-P. Celis, J. Electrochem. Soc., 149 (2002) C56.
B. K. Koo, B. Y. Yoo, Surface and Coating Technology, 205 (2010) 740.
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