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NTIS 바로가기인포메이션 디스플레이 = Information display, v.12 no.5, 2011년, pp.16 - 26
김영철 (한양대학교 나노반도체공학과) , 김유신 (한양대학교 전기공학과) , 김진용 (한양대학교 전기공학과) , 정진욱 (한양대학교 전기공학과)
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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단일 량뮤어 탐침법이란 무엇인가? | 단일 량뮤어 탐침법은 플라즈마 진단을 위해 사용되는 정전 탐침 기술 중 가장 널리 사용되는 기술로서, 플라즈마에 작은 금속 탐침을 삽입하여 탐침에 인가되는 전압변화에 따른 전류 곡선을 분석하여 플라즈마 변수를 측정하는 기술이다. 이 방법을 통해 진단할 수 있는 플라즈마 변수로는 플라즈마 밀도, 전자온도, 플라즈마 전위, 부유전위, 전자 에너지 확률 분포함수(EEPF) 등이 있으며, 현존하는 정전 탐침법 중에서 가장 많은 플라즈마 변수를 진단 할 수 있는 장점을 가지고 있다[1-5]. | |
효과적인 플라즈마 공정을 위해 필요한 것은? | 일반적으로 플라즈마 공정은 각종 반도체 생산 및 디스플레이 패널 생산에서 증착, 식각 등 널리 사용되고 있다. 효과적인 플라즈마 공정을 위해서는 플라즈마 상태를 나타내는 각종 플라즈마 상태 변수를 진단할 수 있는 플라즈마 진단법이 필요하게 된다. 특히 산업체에서 요구되는 진단 기술들은 실시간 공정 모니터링, 플라즈마 균일도 진단 등이 있다. | |
단일 량뮤어 탐침법을 통해 진단할 수 있는 플라즈마 변수에는 어떠한 것들이 있는가? | 단일 량뮤어 탐침법은 플라즈마 진단을 위해 사용되는 정전 탐침 기술 중 가장 널리 사용되는 기술로서, 플라즈마에 작은 금속 탐침을 삽입하여 탐침에 인가되는 전압변화에 따른 전류 곡선을 분석하여 플라즈마 변수를 측정하는 기술이다. 이 방법을 통해 진단할 수 있는 플라즈마 변수로는 플라즈마 밀도, 전자온도, 플라즈마 전위, 부유전위, 전자 에너지 확률 분포함수(EEPF) 등이 있으며, 현존하는 정전 탐침법 중에서 가장 많은 플라즈마 변수를 진단 할 수 있는 장점을 가지고 있다[1-5]. 하지만 접지 전극의 면적이 극단적으로 작은 플라즈마의 경우 적용이 어려운 단점이 있다. |
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