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제안 방법
- 6 μm의 격자 간격을 가지는 회절격자 층을 깊이 방향으로 인접하게 각 각 0.5, 1, 2, 3, 5 μm의 간격으로 회절격자들을 가공을 하였다.
- 본 연구에서는 펨토초 레이저를 이용하여 실리카 내부에 격자 주기가 6 μm인 두 개의 회절격자 층을 깊이 방향으로 인접하게 가공하였으며, 이를 3 μm 격자 주기를 가지는 하나의 층으로 제작된 회절격자와 비교하여 회절 패턴을 측정하였다.
- Fig. 7은 각 각 6 μm의 격자 간격을 가지는 두 개의 층의 간격에 따른 회절 패턴으로 He-Ne 레이저를 이용하였으며, 회절격자와 스크린 사이의 거리를 20cm로 하여, 스크린에 나타난 회절패턴을 디지털 카메라를 이용하여 측정하였다.
- 회절격자의 가공을 위하여 레이저 빔을 20배율 대물렌즈 (NA = 0.40)를 사용하여 실리카 표면에서 70 μm 내부에 3 mm/s 가공속도, 1.7 μJ 펄스 에너지를 사용하여 4 mm × 6 mm의 크기로 제작 하였다.
- 8 nm의 파장을 가지는 He-Ne 레이저를 사용하였으며, 제작된 회절격자와 회절패턴 측정 스크린과의 거리를 20 cm로 고정하여 회절모양을 확인하였고 디지털 카메라를 사용하여 그 모양을 기록하였다. 또한, 각 차수에 따른 강도 측정은 광검출기(Photodiode, PMD100)를 사용하여 측정하였다.
대상 데이터
- 재생 증폭기(regeneration amplifier)에서 방출된 레이저 빔의 공간모드 형태는 가우시안 형태를 가지며 출력빔은 선편광을 가진다. 실험에서는 이 조화 생성기를 사용하여 펨토초 레이저 파장을 515 nm로 변환하여 실험에 사용하였다. 실험에 사용된 스테이지의 x, y 축은 선형 모터 스테이지, 300 mm × 300 mm의 가공 범위, 300 mm/s의 최대 이송 속도를 가지고 있으며, z 축은 100 mm의 가공 범위를 가지며, 각 각 독립적으로 구동된다.
- 7 μJ 펄스 에너지를 사용하여 4 mm × 6 mm의 크기로 제작 하였다. 펨토초 레이저를 사용하여 제작된 회절격자의 회절패턴 측정은 Fig. 3과 같이 632.8 nm의 파장을 가지는 He-Ne 레이저를 사용하였으며, 제작된 회절격자와 회절패턴 측정 스크린과의 거리를 20 cm로 고정하여 회절모양을 확인하였고 디지털 카메라를 사용하여 그 모양을 기록하였다. 또한, 각 차수에 따른 강도 측정은 광검출기(Photodiode, PMD100)를 사용하여 측정하였다.
- 실험에 사용된 스테이지의 x, y 축은 선형 모터 스테이지, 300 mm × 300 mm의 가공 범위, 300 mm/s의 최대 이송 속도를 가지고 있으며, z 축은 100 mm의 가공 범위를 가지며, 각 각 독립적으로 구동된다.
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