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전자빔 기술을 이용한 반도체 공정의 삼불화질소($NF_3$) 분해
Destruction of $NF_3$ Emitted from Semiconductor Process by Electron Beam Technology 원문보기

대한환경공학회지 = Journal of Korean Society of Environmental Engineers, v.34 no.6, 2012년, pp.391 - 396  

류재용 (한국원자력연구원) ,  최창용 (한국원자력연구원) ,  김종범 (한국원자력연구원) ,  이상준 (평택대학교 환경에너지기술융합연구센터) ,  김승곤 ,  곽희성 (한국원자력연구원) ,  윤영민 (한국원자력연구원)

초록
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전자빔을 이용하여 반도체 공정에서 배출되는 $NF_3$ 가스 분해 연구를 수행하였다. 본 연구에서 흡수선량은 0에서 400 kGy 범위였고, 전류강도는 0~20 mA범위였다. 또한, 처리 대상 가스의 농도 범위는 500~2,000 ppm이었다. 그리고 조사시간의 영향을 알기 위해서, 조사시간을 각각 5초, 10초, 15초, 20초 등으로 달리 하면서 실험을 수행하였다. 흡수선량 및 전류 강도가 증가할수록 가스의 분해효율은 증가하였다. 하지만 처리 대상가스의 농도가 증가할 때는 분해효율이 감소함을 알 수 있었다. 흡수선량이 약 400 kGy일 때 처리가스의 분해효율은 약 90% 정도를 나타내었다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The destruction study of $NF_3$ gas emitted from the semiconductor industry is performed with electron-beam technology. Absorbed dose (kGy) and current ranged from 0 (0) to 400 kGy (20 mA). The concentration of $NF_3$ gas ranged from 500 to 2,000 ppm. In order to assess the eff...

주제어

참고문헌 (21)

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  19. 손윤석, "전자빔 Hybrid를 이용한 악취물질 제어연구 및 염색폐수처리시설에 대한 적용," 박사학위논문, 건국대학교 (2012) 

  20. 한국염색기술연구소, "염색폐수처리시설 악취물질의 하이브리드형 라디칼 고도산화 처리기술개발," 환경부(2011) 

  21. 김필헌, "고도산화기술을 이용한 트리메틸아민의 제어특성 연구," 석사학위논문, 건국대학교(2010) 

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