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인포메이션 디스플레이 = Information display, v.13 no.4, 2012년, pp.22 - 31
오태식 (선문대학교 정보디스플레이학과) , 김대욱 (선문대학교 정보디스플레이학과) , 안승준 (선문대학교 정보디스플레이학과) , 김호섭 (선문대학교 정보디스플레이학과)
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| 핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
|---|---|---|
| 마이크로칼럼이란? | 마이크로칼럼(microcolumn)[1-4]으로 명명되고 있는 초소형 전자칼럼(miniaturized electron column)은 전자빔 기술을 이용하는 초소형화된 전자빔 제어 소자이다. 전자빔 기술은 전자 방출원에서 방출된 전자들을 전자 렌즈(electron lens)를 이용하여 제어하는 기술로서 디스플레이 분야의 CRT(cathode ray tube)와 FED(field emission display)에서 부터 광학 현미경으로 관찰할 수 없는 초미세 시료의 구조를 측정하는 전자현미경, 그리고 광학 리소그래피(lithography)의 한계를 뛰어 넘기 위한 전자빔 리소그래피 등에 이르기까지 다양하게 이용되고 있다. | |
| 전자빔 기술이란? | 마이크로칼럼(microcolumn)[1-4]으로 명명되고 있는 초소형 전자칼럼(miniaturized electron column)은 전자빔 기술을 이용하는 초소형화된 전자빔 제어 소자이다. 전자빔 기술은 전자 방출원에서 방출된 전자들을 전자 렌즈(electron lens)를 이용하여 제어하는 기술로서 디스플레이 분야의 CRT(cathode ray tube)와 FED(field emission display)에서 부터 광학 현미경으로 관찰할 수 없는 초미세 시료의 구조를 측정하는 전자현미경, 그리고 광학 리소그래피(lithography)의 한계를 뛰어 넘기 위한 전자빔 리소그래피 등에 이르기까지 다양하게 이용되고 있다. 특히 FED는 CRT에 적용되는 열전자 방출방식의 전자 방출원 대신에 미세 구조의 전계 전자 방출원(field emitter)을 사용하여 thin CRT를 구현한 것으로 그 전계 전자 방출원의 구조가 초소형 전자 칼럼과 유사한 구조로 이루어져 있다. | |
| 전자빔 리소그래피의 한계점은? | 전자빔 리소그래피는 원리적으로 10 nm 이하의 고해상도화가 가능하며 미세한 패턴을 반도체 표면에 직접 패터닝(patterning)할 수 있는 기술로서 평가되고 있다. 그러나 현재 반도체공정의 광학 리소그래피용 마스크(mask) 제작에 필수적으로 사용되고 있는 전자빔 장비는 단일 전자빔 방식으로 패터닝과 측정을 모두 수행하고 있어 생산성(throughput)이 매우 저조하다는 문제점을 가지고 있다. 이러한 전자빔 장비의 단점을 극복하기 위한 대안으로 멀티 전자빔 개념이 제시되어 디스플레이 검사용 장비가 일부 상용화되었지만 기존의 전자칼럼이 크기 때문에 장비가 너무 거대해지는 문제점이 여전히 남아 있었다. |
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