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$TiO_2$ thin films consisting of positively charged poly(diallyldimethylammonium chloride)(PDDA) and negatively charged titanium(IV) bis(ammonium lactato) dihydroxide(TALH) were successfully fabricated on glass beads by a layer-by-layer(LBL) self-assembly method. The glass beads used here...

주제어

AI 본문요약
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제안 방법

  • (PDDA/TALH)20 박막의 결정구조의 분석을 위해 X-ray diffratometer(D/max-2500/PC, Rigaku corporation)를 사용하였고 X-ray 회절 분석에는 40 kV, 30 mA에서 Cu-Ka tube를 사용하여 2θ = 20°~70° 구간에서 측정하였다.
  • 이는 30분만 UV를 조사하여도 TiO2 박막 코팅이 충분이 이루어졌기 때문에 광촉매 효과를 확인 할 수 있다는 것을 보여주며 TiO2 박막은 아나타제 결정성을 갖고 있음을 관찰 할 수 있다. 20회 코팅한 경우, 시간에 따른 광촉매 반응을 관찰하였다. 60분과 90분동안 UV를 조사하여도 광촉매효과가 30분 동안에 모두 이루어 졌기 때문에 값의 차이가 보이지 않음을 Fig.
  • 04 M로 조절하였다. 글라스 비드 입자 표면에 양전하를 갖는 PDDA를 코팅하기 위하여 글라스 비드(4.0 wt%) 용액을 원심 분리한 후 원심관내의 물을 제거하고 PDDA 용액을 넣은 후 초음파 처리를 하여 원심관 밑에 침적된 글라스 비드 입자들을 분산시켰다. 분산된 상태에서 1분간 진동기해서 PDDA를 글라스 비드 입자 표면에 코팅한 후 원심 분리를 하여 입자를 침전시키고 PDDA 용액을 제거했다.
  • 증류수를 넣고 다시 초음파로 분산시킨 후 다시 원심 분리하여 증류수를 제거하는 린스 과정을 2회 반복하였다. 글라스 비드 입자 표면에 코팅된 PDDA의 표면에 TALH를 코팅하기 위하여 TALH 용액을 원심 관에 첨가하여 초음파를 이용하여 입자를 분산시킨 후 1분간 진동기 후 원심 분리하여 TALH 용액을 제거하고 증류수를 이용하여 린스 과정을 2회 반복하였다. 이후부터 PDDA와 TALH를 1회 적층한 것을 1bilayer로 하고, bilayer 수를 n일 경우, (PDDA/TALH)n 으로 나타낸다.
  • 본 연구에서는 광촉매 특성을 지닌 TiO2나노입자를 LBL법을 이용하여 글라스 비드 표면에 TiO2 나노입자를 코팅하여 코팅된 입자의 표면 및 그에 따른 입자의 광학적 특성을 확인하였고, 제조된 박막에 UV를 조사하여 메칠 오렌지를 분해하는 광촉매 특성을 확인하였다.
  • 0 wt%) 용액을 원심 분리한 후 원심관내의 물을 제거하고 PDDA 용액을 넣은 후 초음파 처리를 하여 원심관 밑에 침적된 글라스 비드 입자들을 분산시켰다. 분산된 상태에서 1분간 진동기해서 PDDA를 글라스 비드 입자 표면에 코팅한 후 원심 분리를 하여 입자를 침전시키고 PDDA 용액을 제거했다. 증류수를 넣고 다시 초음파로 분산시킨 후 다시 원심 분리하여 증류수를 제거하는 린스 과정을 2회 반복하였다.
  • 희석된 메칠오렌지(75 mgL−1) 용액에 TiO2 박막을 담근후 UV를 30분부터 90분까지 조사하여 광촉매에 의해 분해되어 감소된 메칠오렌지용액의 흡광도를 UV-Vis spectrophotometer(V-570, JASCO)를 이용하여 측정 하였다.

대상 데이터

  • 0 wt% 용액을 준비하였다. TiO2 박막은 LBL법을 이용하여 제조하는데 양전하를 띠는 poly(diallyldimethylammonium chloride)(PDDA, 20 wt% in water)와 음전하를 갖는 titanium(IV) bis(ammonium lactato) dihydroxide(TALH, 50 wt%)를 사용하였다. Fig.
  • TiO2 박막을 코팅하기 위해 글라스 비드(size: 2.5 µm, 신 세라믹) 분말이 사용되었다.

이론/모형

  • 글라스 비드 입자의 표면에 음전하를 갖는 TiO2 전구체 용액 TALH와 양전하를 갖는 전해질 폴리머 PDDA를 사용하여 균일한 코팅 막을 LBL 법에 의해 제조하였다. 글라스 비드 표면에(PDDA/TALH) 박막의 bilayer 수가 증가됨에 따라 각진 모서리와 평편한 비드 표면이 완만한 곡선의 모서리와 입자들이 응집되어 코팅되어 있는 표면 구조로 변화되었다.
  • 2에 나타내었다. 제조된 나노입자의 표면 미세구조와 성분분석을 확인하기 위하여 Field emission scanning electron microscope(FE-SEM, JSM 6700, JEOL)를 사용하였다. (PDDA/TALH)20 박막의 결정구조의 분석을 위해 X-ray diffratometer(D/max-2500/PC, Rigaku corporation)를 사용하였고 X-ray 회절 분석에는 40 kV, 30 mA에서 Cu-Ka tube를 사용하여 2θ = 20°~70° 구간에서 측정하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
아나타제상을 갖는 TiO2는 어떤 물질을 생성하여 유기물을 분해하는 광촉매 특성을 보여주는가? 광촉매 TiO2 분말은 방향성 유기물인 악취나 담배연기 제거와 같은 개인생활에서부터 공장의 폐수처리 및 대기정화와 같은 대규모 공공사업에 이르기 까지 다양하게 응용되며 우수한 전자, 광학, 화학적 특성을 갖기 때문에 관련 연구가 매우 활발하게 이루어지고 있다.1~4)근자외선(380 nm)광을 조사하면 전자(electron), 전공대(electron hole)가 형성되는데 아나타제상을 갖는 TiO2는 강한 산화력을 가진 하이드록시 라티칼(−OH)과 슈퍼옥사이드(O2−)를 생성해 유기물을 분해하는 광촉매 특성을 보여준다.3,4) 이러한 표면 반응을 광촉매 반응이라 하며, TiO2의 높은 결정성과 넓은 비표면적은 광촉매 성능을 향상시키기 위한 필수 요소이다.
습식법의 종류는? 5,6) TiO2 박막은 습식법을 이용해 제조할 수 있다. 일반적인 습식법은 sol-gel, roll-to-roll coating, dip, spin, spray coating, chemical bath deposition(CBD), liquid phase deposition(LPD)법, layer-by-layer(LBL)법이 있다.7~12) 다양한 습식 공정법 중 하나 인 LBL법은 상온 또는 상압에서 물에 녹거나 분산되고 서로다른 전하를 갖는 물질의 정전기력을 이용해 전해질 폴리머나 나노입자들을 그 용액에 번갈아 침적하여 박막을 제조하는 기술이다.
LBL법의 장점은? 7~12) 다양한 습식 공정법 중 하나 인 LBL법은 상온 또는 상압에서 물에 녹거나 분산되고 서로다른 전하를 갖는 물질의 정전기력을 이용해 전해질 폴리머나 나노입자들을 그 용액에 번갈아 침적하여 박막을 제조하는 기술이다. 이는 박막제조 공정이 간단하며 대면적 코팅에 유리하고 나노스케일로 막두께를 제어하기 쉬운 장점을 갖고 있다.13) Titanium(IV) bis(ammonium lactato) dihydroxide(TALH) 는 TiO2 코팅막을 제조하기 위해 많이 사용되고 있다.
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참고문헌 (15)

  1. E. T. Fitzgibbons, K. J. Sladek and W. H. Hartwig, J. Electrochem. Soc., 119, 735 (1972). 

  2. R. Wang, K. Hashimoto, A. Fujishima, M. Chikuni, E. Kojima, A. Kitamura, M. Shimohigoshi and T. Watanabe, Adv. Mater., 10, 135 (1998). 

  3. F. Saylkan, M. Asilturk, P. Tater, N. Kiraz, S. Sener, E. Arpac and H. Saylkan, Mater. Res. Bull., 43, 127 (2008). 

  4. K. -U. Jung, T. -G. Lee and C. -S. Mun, Kor. J. Mater. Res., 18(4), 211 (2008) (in Korean). 

  5. T. Kasuga, M. Hiramatsu, A. Hoson, T. Sekino and K. Niihara, Langmuir, 14, 3160 (1998). 

  6. F. Pedraza and A. Vazquez, J. Phys. Chem. Solid., 60, 445 (1999). 

  7. P. Chrysicopoulou, D. Davazoglou, C. Trapalis and G. Kordas, Thin Solid Films, 323, 188 (1998). 

  8. M. Takeuchi, T. Itoh and H. Nagasaka, Thin Solids Films, 51, 83 (1978). 

  9. K. S. Yeung and Y. W. Lam, Thin Solids Films, 109, 169 (1983). 

  10. J. H. Kim and S. Shiratori, Jpn. J. Appl. Phys., 44, 7588 (2005). 

  11. Y. Tsuge, J. Kim, Y. Sone, O. Kuwaki and S. Shiratori, Thin Solid Films, 516, 2463 (2008). 

  12. H. -J. Kim, K. -J. Jeong and D. -S. Bae, Kor. J. Mater. Res., 22(5), 249 (2012). 

  13. G. Decher, J. D. Hong and J. Schmitt, Thin Soild Films, 210-211, 831 (1992). 

  14. F. Caruso, X. Shi, R. A. Caruso and A. Susha, Adv. Mater, 13, 740 (2001). 

  15. M. Keshmiri, M. Mohseni and T. Troczynski, Appl. Catal. B Environ., 53, 209 (2004). 

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