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[국내논문] 광 메타물질 응용기술 원문보기

광학과 기술 = Optical science and technology, v.16 no.3, 2012년, pp.28 - 32  

백승화 (연세대학교 기계공학과) ,  김경식 (연세대학교 기계공학과)

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문제 정의

  • 광 메타물질의 기본적인 이론과 몇 가지 응용 가능성에 대해서 살펴 보았다. 물질의 광 특성은 굴절률에 따라 달라지고 유전율과 투자율의 부호 및 크기에 따라 각각 다른 현상이 발생할 수 있으므로, 각각의 광 특성에 맞는 응용기술에 주목하면 광 메타물질 분야가 긴요하게 적용될 수 있음을 알 수 있었다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
우리가 인식하는 빛이 각각의 원자들을 볼 수 없는 이유는? 이러한 원자, 분자와 빛, 전자기파의 전자기적 에너지 교환 또는 상호작용은, 물질을 이용하여 진행하는 빛을 제어할 수 있는 기본 원리가 됨으로써 전자기 장치의 설계 및 제작이 가능해진다. 이렇게 빛과 상호작용하는 물질이 각각 원자들의 집합으로 이루어져 있음에도 불구하고, 우리가 인식하는 빛이 각각의 원자들을 볼 수 없는 것은 가시광 영역 빛의 파장(~수백 nm)이 물질 내 원자들의 크기 및 간격 (~0.1 nm) 보다 훨씬 크기 때문이다. 빛의 파장이 원자간격보다 훨씬 크기 때문에 개별원자 및 분자들의 빛과의 상호작용이 평균값을 이용하여 연속체와 근사한 현상으로 이해될 수 있다.
음굴절률 메타물질이 회절 한계를 극복하는 타 기술과 차별되는 점은? Pendry에 의해 제안되었으며,[8] 이러한 음굴절률 메타물질을 근접장 광이미징 시스템에 도입하여 회절한계 이상의 고분해능의 이미지를 획득할 수 있음을 실험적으로 구현하였다.[9,10] (그림3 좌 참조) 음굴절률 물질이 회절 한계를 극복하는 타 기술과 차별되는 점은 특정 파장의 전자기파 대역에서 표면 플라즈몬 공명(Surface Plasmon Resonance) 또는 음향양자 공명(Phonon Resonance)을 발생시켜 전자기파의 진행거리에 따라 지수함수적으로 소멸하는 소산파(evanescent wave)를 반대로 복원함으로써 회절한계를 넘어서는 고분해능이 가능하다는 것이다. 이러한 수퍼렌즈 기술은 대면적 이미징이 가능하고, 기하학적 변형이나 가공이 필요 없는 평판형(Slab) 구조이므로 종래의 광리소그래피 및 광이미징 기술과 호환성이 좋다는 장점이 있어 산업현장에 응용가능성이 매우 높다.
1/4 파장 반사방지막에 의한 태양광 반사저감 기술이란? 1/4 파장 반사방지막에 의한 태양광 반사저감 기술은 서로 다른 두 매질 사이에 1/4 파장 두께에 해당하는 중간층을 삽입하여 이중 계면을 구성함으로써, 이들 이중 계면으로부터 반사된 태양광이 상쇄간섭(destructive interference)을 일으켜 특정 파장에서의 태양광 반사를 효과적으로 저감시키는 기술이다. 그러나 1/4파장 반사방지막을 적용한 반사 저감 기술은 제조 공정적인 측면에서 높은 생산성과 낮은 비용을 갖는 장점이 있지만, 특정한 파장과 입사각에서만 태양광의 반사율을 낮출 수 있기 때문에 광대역에 걸친 태양광 반사 저감 효과를 얻을 수 없다는 단점이 있다.
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