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CIGS is one of thin film solar cell and has been studied so much, because of the possibility of low price and high efficiency. Until now, co-evaporation and sputtering were typical method to prepare CIGS absorption layer, and a few company commercialized solar cell by these method. However, non-vacu...

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문제 정의

  • 후막 공정 중 aerosol deposition 공정은 상온에서 빠른 증착이 가능하며 증착과 동시에 치밀한 막이 형성된다는 장점이 있으나 실험을 위한 원료 파우더의 소요량이 많고 조성의 제어가 원료 파우더 합성 단계에서 이루어져야 하는 단점으로 인하여 쉽게 연구되지 못하였다 [10-17]. 따라서 본 연구에서는 선행 연구 결과를 바탕으로 CIGS 원료의 조성 제어 및 많은 량을 쉽게 합성할 수 있기 때문에 이를 이용하여 aerosol deposition 방법으로 CIGS 광흡수층막의 형성 가능성을 확인하고자 하였다. 막의 형성을 위하여 증착 조건 중 flow gas의 량과 증착 횟수 및 vibration unit의 진동을 변화하였고 이들의 반도성화를 위한 열처리 조건을 변화하여 광흡수층을 형성하였으며 결과적으로 태양전지로 작동할 수 있음을 확인하고자 하였다.
  • 따라서 본 연구에서는 선행 연구 결과를 바탕으로 CIGS 원료의 조성 제어 및 많은 량을 쉽게 합성할 수 있기 때문에 이를 이용하여 aerosol deposition 방법으로 CIGS 광흡수층막의 형성 가능성을 확인하고자 하였다. 막의 형성을 위하여 증착 조건 중 flow gas의 량과 증착 횟수 및 vibration unit의 진동을 변화하였고 이들의 반도성화를 위한 열처리 조건을 변화하여 광흡수층을 형성하였으며 결과적으로 태양전지로 작동할 수 있음을 확인하고자 하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
CIGS solar cell란? CIGS solar cell은 2세대 박막 태양전지로 Si-solar cell을 대체하기 위하여 활발히 연구되고 있다. CIGS solar cell의 CIGS 층은 광흡수층으로서 이 층을 형성 하기 위하여 여러 가지 방법의 공정들이 시도되고 있으며 현재 상용화에 접근한 방법은 co-evaporation이나 sputtering이다.
2 ㎛ 두께의 후막을 형성할 수 있는 공정 중 aerosol deposition 공정의 장단점은? 후막 공정 중 aerosol deposition 공정은 상온에서 빠른 증착이 가능하며 증착과 동시에 치밀한 막이 형성된다는 장점이 있으나 실험을 위한 원료 파우더의 소요량이 많고 조성의 제어가 원료 파우더 합성 단계에서 이루어져야 하는 단점으로 인하여 쉽게 연구되지 못하였다 [10-17]. 따라서 본 연구에서는 선행 연구 결과를 바탕으로 CIGS 원료의 조성 제어 및 많은 량을 쉽게 합성할 수 있기 때문에 이를 이용하여 aerosol deposition 방법으로 CIGS 광흡수층 막의 형성 가능성을 확인하고자 하였다.
2 ㎛ 두께의 후막을 형성할 수 있는 공정은 어떤 것들이 있는가? 이러한 단점을 보안하기 위하여 후막 공정을 이용한 CIGS solar cell의 연구가 진행되고 있다. 약 2 ㎛ 두께의 후막을 형성할 수 있는 공정은 screen printing, tape casting, sol-gel coating, electroplating, aerosol deposition 등이 포함될 수 있으며 이들은 비진공 공정이므로 공정단가를 낮출 수 있고 파우더 단위에서 합성이 이루어진 원료를 사용하므로 조성의 균일성을 확보할 수 있다는 장점을 가지고 있지만 파우더나 원료 용액을 이용하므로 치밀화를 위한 추가 공정이 필요하다는 단점이 있다. 주로 비진공 방법을 이용한 CIGS 막의 형성은 screen printing, sol-gel coating 및 electroplating 방법이 많이 연구되었으나 screen printing과 sol-gel coating의 경우 치밀화 공정에 한계가 있고 electroplating 역시 공정 중에서 균일한 코팅 및 효율 향상에 한계가 있어왔다 [7-9].
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참고문헌 (21)

  1. T. Kjrchartz, U. Rau, M. Kurth, J. Mattheis, and J. H. Werner, Thin Solid Films, 515, 6238 (2007). 

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  5. A. E. Delahoy, L. Chen, M. Akhtar, B. Sang, and S. Guo, Solar Energy, 77, 785 (2004). 

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  7. B. S. Koo, S. J. Sung, D. H. Kim, D. H. Lee, and D. K. Hwang, Curr. Appl. Phys., 13, S135 (2013). 

  8. N. G. Dhere, Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 95, 277 (2011). 

  9. S. I. Gu, H. S. Shin, D. H. Yeo, Y. W. Hong, and S. Nahm, Curr. Appl. Phys., 11, S99 (2011). 

  10. I. Kim, J. Park, T. H. Nam, K. W. Kim, J. H. Ahn, D. S. Park, C. Ahn, G. Wang, and H. J. Ahn, J. Power Sources, 244, 646 (2013). 

  11. R. Modi, A. Khan, M. Joshi, S. Ganju, A. K. Singh, A. Srivastava, B. K. Sapra, and Y. S. Mayya, Annals of Nuclear Energy, 64, 107 (2014). 

  12. J. Aked and J. Therm, Spray Technol, 17, 181 (2008). 

  13. J. J. Choi, B. D. Hahn, J. H. Ryu, W. H. Yoon, B. K. Lee, and D. S. Park, Sens. Actuators, A Phys., 153, 89 (2009). 

  14. M. Kubo, Y. Ishihara, Y. Mantani, and M. Shimada, Chem. Eng. J., 232, 221 (2013). 

  15. L. Madler, A.A. Lall, S.K. Friedlander, Nanotechnology, 17, 4783 (2006). 

  16. E. Thimsen and P. Biswas, AIChE J., 53, 1727 (2007). 

  17. M. W. Lee, J. J. Park, D. Y. Kim, S. S. Yoon, H. Y. Kim, S. C. James, S. Chandra, T. Coyle, J. H. Ryu, W. H. Yoon, and D. S. Park, J. Aerosol Sci., 42, 771 (2011). 

  18. S. J. Ahn, K. H. Kim, J. H. Yun, and K. H. Yoon, J. Appl. Phys., 105, 113533 (2009). 

  19. C. P. Liu and C. L. Chuang, Powder Technol., 229, 78 (2012). 

  20. F. Kang, J. Ao, G. Sun, Q. He, and Y. Sun, Curr. Appl. Phys., 10, 886 (2010). 

  21. S. R. Dhage and H. T. Hahn, J. Phys. Chem. Solids, 71, 1480 (2010). 

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