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NTIS 바로가기한국표면공학회지 = Journal of the Korean institute of surface engineering, v.46 no.6, 2013년, pp.242 - 247
최하송 (부산대학교 재료공학부) , 장재호 (한국생산기술연구원) , 안은솔 (한국생산기술연구원) , 김광호 (부산대학교 재료공학부)
Zr-Al-N coatings were synthesized by the hybrid coating system combining arc ion plating and DC magnetron sputtering from a Zr and an Al target in argon-nitrogen atmosphere, respectively. By changing the power applied on the Al cathodes, the Zr-Al-N coatings with various Al contents were deposited. ...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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Ti-Al-N 박막에서 내산화성을 향상시키기 위해 Al을 첨가하는 것은 어떤 역할을 하는가? | 이와 유사하게 TiN 박막에서도 위와 같은 내산화성을 요구하는 연구는 진행되어 왔으며, Al을 첨가하여 내산화성 및 기계적 특성을 개선하였다6,7). 예를 들어, Ti-Al-N 박막에서 내산화성의 향상은 TiN 격자 내에 Al 원자가 고용되어지며, 이에 고온에서 표면으로 확산된 Al 이온들이 코팅막 표면에서 화학적으로 안정한 Al 산화층을 형성하여 산소의 확산방지막 역할을 하는 것으로 알려져 있다8-12). 그러나, Zr-Al-N에 대한 연구는 미세구조와 확산방지막, 열적 안정성에 대한 연구가 일부 진행되었을 뿐, 미세구조에 따른 내산화성 및 내부식성에 관한 연구는 거의 진행되지 않았다13-16). | |
하이브리드 코팅 시스템이란? | 하이브리드 코팅 시스템은 아크 이온플레이팅법과 마그네트론 스퍼터링법의 복합 공정으로 이루어져 있다. 높은 이온화율과 함께 모재와의 높은 밀착력 등 많은 장점들을 가지고 있는 아크 이온 플레이팅 기술과 미세 함량 제어 및 비전도성 타켓물질에 적용 가능한 마그네트론 스퍼터링 기술을 동시에 구현할 수 있는 융합형 코팅공정 시스템이다. 또한 아크 이온플레이팅법의 최대의 장점인 높은 증착수율 특성을 유지하면서 코팅막내 미세 조성 제어가 가능하게 설계되어 있다. | |
ZrN 박막이 보호피막으로 실제 사용에 제한이 있는 이유는? | ZrN 박막은 우수한 내마모성, 높은 경도, 내부식 특성을 가지며 공구 및 기계장치의 수명향상을 위한 보호막으로 다양한 산업에서 많이 사용되고 있다1-4). 그러나 실제 응용 시 마찰 등에 의하여 야기되는 고열에 때문에 ZrN 박막이 ZrO2로 산화, 그 특성이 저하되어 보호 피막으로 사용하는데 제한이 있다5). 이와 유사하게 TiN 박막에서도 위와 같은 내산화성을 요구하는 연구는 진행되어 왔으며, Al을 첨가하여 내산화성 및 기계적 특성을 개선하였다6,7). |
D. Jianxin, L. Jianhua, Z. Jinlong, S. Wenlong, N. Ming, Wear, 264 (2008) 298.
A. Fragiel, M. H. Staia, J. M. Saldana, E. S. P. Cabrera, C. C. Escobedo, L. Cota, Surf. Coat. Technol., 202 (2008) 3653.
D. Roman, J. Bernardi, C. L. G. Amorim, F. S. Souza, A. Spinelli, C. Giacomelli, C. A. Figueroa, I. J. R. Baumvol, R. L. O. Basso, Mater. Chem. Phys., 130 (2011) 147.
M. A. Auger, J. J. Araiza, C. Falcony, O. Sanchez, J. M. Albella, Vacuum, 81 (2007) 1462.
L. Krusin-Elbaum, M. Wittmer, Thin Solid Films, 107(1) (1983) 111.
D. McIntyre, J. E. Greene, G. Hakansson, J.-E. Sundgren, W.-D. Munz, J. Appl. Phys., 67(3) (1990) 1542.
S. PalDey, S. C. Deevi, Mat. Sci. Engin. A, 58 (2003) 342.
W.-D. Munz, J. Vac. Sci. Technol. A, 4(6) (1986) 2717.
O. Knotek, M. Bohmer, T. Leyendecker, J. Vac. Sci. Technol. A, 4(6) (1986) 2695.
S. Inoue, H. Uchida, Y. Yoshinaga, K. Koterazawa, Thin Solid Films, 171 (1997) 300.
C. W. Kim, K. H. Kim, Thin Solid Films, 307 (1997) 113.
P. Panjan, B. Navinsek, M. Cekada, A. Zalar, Vaccum 53 (1999) 127.
H. Klostermann, F. Fietzke, T. Modes, O. Zywitzki, Rev. Adv. Mater. Sci., 15 (2007) 33.
R. Sanjines, C. S. Sandu, R. Lamni, F. Levy, Surf. Coat. Technol., 200 (2006) 6308.
Y. Makino, M. Mori, S. Miyake, K. Saito, K. Asami, Surf. Coat. Technol., 193 (2005) 219.
J.-L. Ruan, J.-L. Huang, J. S. Chen, D.-F. Lii, Surf. Coat. Technol., 200 (2005) 1652.
R. Lamni, R. Sanjines, F. Levy, Thin Solid Films, 478 (2005) 170.
J. J. Araiza, O. Sanchez, J. Phys. D: Appl. Phys., 42 (2009) 115422.
H. Hasegawa, M. Kawate, T. Suzuki, Surf. Coat. Technol., 200 (2005) 2409.
D. Holec, R, Rachbauer, L. Chen, L. Wang, D. Luef, P. H. Mayrhofer, Surf. Coat. Technol., 206 (2011) 1698.
A. Lasalmoni, J. L. Strudel, J. Mater. Sci., 21 (1986) 1837.
Y. G. Ko, K. M. Lee, K. R. Shin, D. H. Shin, J. Kor. Inst. Met. Mater., 48 (2010) 8.
H. C. Barshilia, N. Selvakumar, B. Deepthi, K. S. Rajam, Surf. Coat. Technol., 201 (2006) 2193.
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